[实用新型]一种晶片频率腐蚀及清洗装置无效
| 申请号： | 201120011949.3 | 申请日： | 2011-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN201990731U | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 施斌慧 | 申请（专利权）人： | 江阴市江海光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;C30B33/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214400 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 频率 腐蚀 清洗 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种晶片频率腐蚀及清洗装置，其特征在于，所述装置为箱体结构，在所述箱体内设有腐蚀槽与清洗槽，所述腐蚀槽位于箱体的一端，在所述腐蚀槽的一侧设有清洗槽，将所述清洗槽与所述腐蚀槽之间用A隔板隔开，在所述清洗槽的侧壁上设有至少两道B隔板插槽，通过所述B隔板至少将清洗槽分割为两个，所述至少两个清洗槽的底部相互连通；在所述清洗槽和腐蚀槽内各设有一根传动轴，在每根所述的传动轴上均装有振动架，在所述振动架上放置有晶片篮；在所述腐蚀槽的外围设置有放水隔层。
2.根据权利要求1所述的晶片频率腐蚀及清洗装置，其特征在于，所述清洗槽之间的B隔板间可互换，且B隔板的高度各不相同。
3.根据权利要求1所述的晶片频率腐蚀及清洗装置，其特征在于，在所述的腐蚀槽和清洗槽的上方设有一个共同的排风装置。
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