[实用新型]羟基羧酸环状二聚体制造装置无效
| 申请号： | 201120079230.3 | 申请日： | 2011-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN202022870U | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 上川将行;松尾俊明;冈本成恭;冈宪一郎;近藤健之;户村晃;铃木一隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立工业设备技术 |
| 主分类号： | C07D319/12 | 分类号： | C07D319/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 羟基 羧酸 环状 二聚体 制造 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种羟基羧酸环状二聚体制造装置，其特征在于具有水平设置的反应液流路、与反应液流路接触的热介质流路和将反应液流路减压的减压装置。
2.根据权利要求1所述的羟基羧酸环状二聚体制造装置，其中，平行地设有多条反应液流路，热介质流路被按照包围各条反应液流路的方式设置。
3.根据权利要求1所述的羟基羧酸环状二聚体制造装置，其中，在反应液流路内设有多条热介质流路。
4.根据权利要求3所述的羟基羧酸环状二聚体制造装置，其中，平行地设置有反应液流路和热介质流路。
5.根据权利要求1～4中任意一项所述的羟基羧酸环状二聚体制造装置，其中，在反应液流路的出口设有收集罐，在收集罐中设有液面计。
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