[实用新型]具有掩模版清洁功能的曝光机有效
| 申请号： | 201120081548.5 | 申请日： | 2011-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN202003138U | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 秦颖;孙亮;孟春霞;郝昭慧;林承武 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 模版 清洁 功能 曝光 | ||
1.一种具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，包括：曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装掩模版清洁装置。
2.如权利要求1所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述清洁装置为吹风刀和/或吸风刀。
3.如权利要求2所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述输送通道的起点为曝光机中掩模版入口处，将吹风刀安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；所述吹风刀产生的气流方向与掩模版进入曝光机的方向相反。
4.如权利要求2所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述输送通道的终点为曝光机中放置掩模版的基台，将吹风刀和吸风刀相对安装在曝光机中放置掩模版基台的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在基台上进行扫描的方向相反。
5.如权利要求1所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述输送通道中还包括设置在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道，将吹风刀和吸风刀相对安装在感应传感器之间形成的输送通道的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在薄膜颗粒检测装置中进行扫描的方向一致。
6.如权利要求1所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述清洁装置为自吸式吸尘部件，所述自吸式吸尘部件具有吸气端。
7.如权利要求6所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述自吸式吸尘部件安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；
或者安装在放置掩模版基台的上方和/或下方；
或者安装在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道的上方和/或下方。
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