[实用新型]具有掩模版清洁功能的曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及曝光机中清洁掩模版的技术领域，特别涉及一种具有掩模版清洁功能的曝光机。

背景技术

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管-液晶显示器)制造行业中，光掩模版是光刻工艺的关键部件，在光刻工艺中，利用具有设计图案的光掩模版和紫外光对涂有光刻胶的基板进行曝光，可以将光掩模版上的图案转写到基板上。实际TFT-LCD生产工艺中，需要反复几次的光刻才能完成薄膜晶体管阵列和彩膜基板的制作。

由于光掩模版的图案是按照1∶1的比例转写到基板上，光掩模版上的缺陷在曝光转写后很容易引起产品图案的缺陷，从而影响产品的可靠性或者导致产品的优良率下降。由于光掩模版上有着微米级的图案，生产环境或者生产过程中存在的异物颗粒很容易附着在掩模版的表面和背面，直接导致曝光图形的缺陷。

一般的制造厂商都是在定期对光掩模版的表面和背面进行异物情况确认后，或是发现曝光后的产品出现图像缺陷的情况下才会对掩模版进行简单的清洁。现有的清洁掩模版的方法一般采用停止工艺进度，单独将掩模版从曝光机内取出后进行单独清洗。这种清洁掩模版的方式，操作起来费时费力，容易造成掩模版的破损，并且清洁效率低下。位于曝光机中的掩模版不能得到实时清洁，不能从根源上保证光掩模上下表面的洁净度，导致掩模版上下表面容易附着异物，进而导致产品出现大批量重复性的图形缺陷，浪费加工成本。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术中只有当产品图案出现缺陷后才清洁掩模版，并且清洁掩模版时操作复杂，费时费力，容易造成掩模版破损等缺点。

(二)技术方案

为了解决上述问题，本实用新型提供一种具有掩模版清洁功能的曝光机，包括：曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。

进一步地，所述清洁装置为吹风刀和/或吸风刀。

进一步地，所述输送通道的起点为曝光机中掩模版入口处，将吹风刀安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；所述吹风刀产生的气流方向与掩模版进入曝光机的方向相反。

进一步地，所述输送通道的终点为曝光机中放置掩模版的基台，将吹风刀和吸风刀相对安装在曝光机中放置掩模版基台的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在基台上进行扫描的方向相反。

进一步地，所述输送通道中还包括设置在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道，将吹风刀和吸风刀相对安装在感应传感器之间形成的输送通道的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在薄膜颗粒检测装置中进行扫描的方向一致。

进一步地，所述清洁装置为自吸式吸尘部件，所述自吸式吸尘部件具有吸气端。

所述自吸式吸尘部件安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；

或者安装在放置掩模版基台的上方和/或下方；

或者安装在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道的上方和/或下方。

(三)有益效果

本实用新型提供的具有掩模版清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。

附图说明

图1为本实用新型具有掩模版清洁功能的曝光机中入口处位置结构示意图；

图2为本实用新型具有掩模版清洁功能的曝光机中基台位置结构示意图；

图3为本实用新型具有掩模版清洁功能的曝光机中薄膜颗粒检测装置位置结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

实施例1

如图1所示，该具有掩模版清洁功能的曝光机，在输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。其中，输送通道的起点为曝光机中掩模版5的入口处1，输送通道的终点为曝光机中放置掩模版5的基台2(参见图2)。本实施例中的掩模版5由表面为石英基板层和背面为高聚酯的保护膜组成。