[实用新型]带有排气处理设备的干膜制造系统有效

专利信息
申请号: 201120136913.8 申请日: 2011-04-29
公开(公告)号: CN202141887U 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 坪井厚夫 申请(专利权)人: 旭化成电子材料株式会社
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 带有 排气 处理 设备 制造 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种带有排气处理设备的干膜制造系统。

背景技术

以往,作为感光性树脂组合物,例如有电子电路用印刷电路板所使用的干膜。干膜在制造阶段会经过将作为感光性树脂组合物的光致抗蚀剂承载到PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯;聚酯)等载体膜上的工序。此时,需要将感光性树脂组合物的原料溶解到溶剂中,因此在将光致抗蚀剂承载到载体膜上之后,通过进行干燥,使溶剂挥发,放出溶剂的排气。该排气的浓度通常从大约100ppm~百分之几,因此通常为了防止环境污染,会设置排气处理设备。

另外,排气处理设备通常仅在干膜制造工序,即膜干燥设备的下游设置一处。

因此,当排气处理设备因某种事故而停止运转时,干膜的生产就不得不停止。

另外,排气处理设备一般为通过燃烧进行氧化处理的设备。

然而,该方法存在着会排出通过燃烧所进行的氧化处理中产生的CO2、以及无法对使用过的溶剂进行再利用的问题。因此,人们知道为了对上述溶剂进行再利用,而利用对排气中的溶剂成分进行吸附和释放的吸附释放设备(专利文献1)。

然而,干膜的制造流程中使用的溶剂种类较多,且排气中的溶剂气体浓度也范围较广,因此仅靠吸附释放设备无法应对所有的排气处理。

专利文献1:日本特开2005-138038号公报

实用新型内容

因此本实用新型的目的在于提供一种干膜制造系统,在干膜的制造流程中,即使在排气处理装置中产生事故也不会导致生产性降低,且能降低CO2的排出量,并能对使用过的溶剂进行再利用。

本发明人通过对在干膜的制造流程中,即使在排气处理装置中产生事故也不会导致生产性降低,且能降低CO2的排出量,并能对使用过的溶剂进行再利用的事项进行研究,发现在制造流程中,通过设置处理排气的至少不同的两种以上的排气处理设备,不同的两种以上的排气处理设备分别与干燥设备连接,能够实现即使在排气处理装置中产生事故也不会导致生产性降低,且能降低CO2的排出量,并能对使用过的溶剂进行再利用,由此完成了本实用新型。

即,本实用新型提供以下技术方案。

(1)一种干膜制造系统,其特征在于,至少具有:涂敷设备,其用于将含有溶剂的感光性树脂组合物溶液涂敷到载体膜上;干燥设备,其用于使溶剂从该涂敷后的感光性树脂组合物溶液中挥发出来;两种以上的排气处理设备,其用于对从上述干燥设备中产生的排气中的溶剂成分进行处理。

(2)在上述技术方案(1)所述的干膜制造系统的基础上,其特征在于,作为上述两种以上的排气处理设备,至少包括:用于对从上述干燥设备中产生的该排气中的溶剂成分进行回收的溶剂回收设备这一种类、以及用于使该排气中的溶剂成分燃烧的燃烧设备这一种类。

(3)在上述技术方案(2)所述的干膜制造系统的基础上,上述燃烧设备为通过催化剂使上述排气中的溶剂氧化的燃烧设备。

(4)在上述技术方案(2)所述的干膜制造系统的基础上,在上述两种以上的排气处理设备中,包括一个以上的上述溶剂回收设备的情况下,其中的至少一个上述溶剂回收设备为用于对上述排气中的溶剂成分进行吸附和释放的吸附释放设备。

(5)在上述技术方案(4)所述的干膜制造系统的基础上,上述吸附释放设备为采用蒸气或热氮气来释放上述排气中的溶剂的设备。

(6)在上述技术方案(4)所述的干膜制造系统的基础上,上述吸附释放设备为通过活性炭来吸附上述排气中的溶剂的设备。

(7)在上述技术方案(4)所述的干膜制造系统的基础上,还具有液体浓缩设备,该液体浓缩设备用于对上述吸附释放设备所生成的含有溶剂的水溶液进行浓缩,该液体浓缩设备与上述吸附释放设备相连接。

(8)在上述技术方案(7)所述的干膜制造系统的基础上,还具有排水处理设备,该排水处理设备能够对上述液体浓缩设备所排出的排水的pH值进行调节,该排水处理设备与上述液体浓缩设备相连接。

(9)在上述技术方案(1)所述的干膜制造系统的基础上,上述两种以上的排气处理设备分别与上述干燥设备相连接。

(10)在上述技术方案(1)所述的干膜制造系统的基础上,能够对分别经过上述两种以上的排气处理设备的上述排气的量进行控制。

(11)在上述技术方案(1)~(10)中任一项所述的干膜制造系统的基础上,上述感光性树脂组合物溶液中含有质量百分比为10%以上的溶剂。

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