[实用新型]用于真空溅镀的气体混合控制装置有效
| 申请号： | 201120246087.2 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN202181341U | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 戴明光 | 申请（专利权）人： | 戴明光;苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 215101 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 真空 气体 混合 控制 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于真空溅镀的气体混合控制装置，它包括若干气体储存装置以及与所述的气体储存装置相连的真空溅镀室，其特征在于，它还包括气体流量控制阀以及计算机，所述的气体流量控制阀设于所述的每一气体储存装置与气体预混腔之间，所述的气体流量控制阀与所述的计算机相连。
2.根据权利要求1所述的用于真空溅镀的气体混合控制装置，其特征在于，所述的气体混合装置还包括一气体预混腔，所述的气体预混腔设于所述的气体流量控制阀与真空溅镀室之间。
3.根据权利要求2所述的用于真空溅镀的气体混合控制装置，其特征在于，所述的气体预混腔与真空溅镀室之间设有电磁阀，所述的电磁阀也与所述的计算机相连。
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