[实用新型]带表面活化的连续真空溅镀装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空溅镀领域，具体涉及一种带表面活化的真空溅镀装置。

背景技术

上世纪80年代以来，真空溅镀逐渐取代传统的电镀、漆涂等喷涂手段，其常应用于工件镀、装饰镀和特殊功能镀膜领域，在对基材进行溅镀时，需要对基材表面进行清洁，但是在现有的设备中，并不具备相应设备对基材进行清洁，使得溅镀过程较为复杂，限制了溅镀生产线的工作效率。

发明内容

本实用新型目的在于提供一种带表面活化的真空溅镀装置，其能完成对基材表面的清洁以及活化，提高镀膜效果以及监督生产线的工作效率。

为了解决现有技术中的这些问题，本实用新型提供的技术方案是：

一种带表面活化的真空溅镀装置，它包括用于表面改质处理的第一真空室以及设于第一真空室后端的若干真空溅镀室，所述的第一真空室前端设有真空活化室，所述的真空活化室内设有阴极电弧源。

详细的技术方案是：一种带表面活化的真空溅镀装置，它包括用于表面改质处理的第一真空室以及设于第一真空室后端的若干真空溅镀室，所述的第一真空室前端设有真空活化室，所述的真空活化室内设有阴极电弧源，所述的真空活化室内设有水冷降温装置，用于对阴极电弧源进行冷却，所述的真空活化室、第一真空室与真空溅镀室中设有工件传输系统。

相比于现有技术中的解决方案，本实用新型优点是：

1． 本实用新型在对基材进行改质处理前，通过阴极弧光源在真空环境下所形成区域性弧光栅对基材表面进行清洗与活化，不但能够完成基材表面的清洁工作，而且能够改变基材的表面张力，在后端进行镀膜时可以更好地完成成膜需求；

2． 本实用新型中所设的水冷降温装置可降低阴极电弧源的阴极进行强制冷却，从而保护阴极电弧源的正常工作，工件传输系统贯穿整个真空溅镀装置，实现全程生产自动化。

附图说明

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：

图1为本实用新型的一种结构示意图；

其中：1、第一真空室；2、第一真空溅镀室；3、第二真空溅镀室；4、真空活化室；5、阴极电弧源；6、工件传输系统；7、基材。

具体实施方式

以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本发明而不限于限制本发明的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。

实施例：

本实施例中，如图1所示，本实用新型所描述的带表面活化的真空溅镀装置，它包括用于表面改质处理的第一真空室1以及设于第一真空室1后端的第一真空溅镀室2、第二真空溅镀室3，所述的第一真空室1前端设有真空活化室4，所述的真空活化室4内设有阴极电弧源5，所述的真空活化室4内设有水冷降温装置，用于对阴极电弧源5进行冷却，所述的真空活化室4、第一真空室1与真空溅镀室中设有工件传输系统6，所述的工件传输系统7设于阴极电弧源5的放电两极之间。

当基材7由工件传输系统6传送至真空活化室4后，阴极电弧源5的放电两极间由于电位差产生电弧源，在真空环境下形成区域性的弧光栅，从而对基材7表面实现清洗与活化，去除了基材7表面的污垢与杂质，另外，由于基材7受到活化处理，基材7的表面张力变小，在后端进行真空溅镀时，可以更好的达成成膜需求，而且基材7表面的光滑度也可得到很好地改善。

上述实例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。