[实用新型]双面卷对卷真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201120251884.X 申请日: 2011-07-15
公开(公告)号: CN202187062U 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 唐世杰;王启任 申请(专利权)人: 迎辉科技股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/54
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 任永武;须一平
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 双面 真空镀膜 设备
【权利要求书】:

1.一种双面卷对卷真空镀膜设备,适用于在一个成卷的基材的相反的一个第一面与一个第二面上镀膜,并包含:一个用于卷放该基材的放料装置,以及一个位于该放料装置的下游的第一镀膜装置,其特征在于:该第一镀膜装置包括一个输送来自于该放料装置的基材的第一滚轮单元、一个用于干燥该基材的加热器、一个位于该加热器的下游并清洁该基材的第一面的第一清洁机构,以及一个位于该第一清洁机构的下游并在该基材的第一面镀膜的第一镀膜机构;该第一滚轮单元包括一个与该基材的第二面贴合并使该基材的第一面露出的第一转轮;该双面卷对卷真空镀膜设备还包含一个位于该第一镀膜装置的下游的第二镀膜装置,以及一个位于该第二镀膜装置的下游并用于卷收该基材的收料装置;该第二镀膜装置包括一个输送来自于该第一镀膜装置的基材的第二滚轮单元、一个清洁该基材的第二面的第二清洁机构,以及一个位于该第二清洁机构下游并在该基材的第二面镀膜的第二镀膜机构;该第二滚轮单元包括一个与该基材的第一面贴合并使该基材的第二面露出的第二转轮。

2.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该第一镀膜装置及该第二镀膜装置为上下设置。

3.如权利要求1或2所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该第一镀膜装置还包括一个位于所述第一镀膜机构的下游的第一电性测量仪,该第二镀膜装置还包括一个位于所述第二镀膜机构的下游的第二电性测量仪。

4.如权利要求3所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该第二镀膜装置还包括一个位于所述第二镀膜机构的下游的光学检测仪。

5.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该第一滚轮单元还包括数个间隔的第一张力轮,所述第一张力轮分别位于该放料装置与该加热器之间、该加热器与该第一转轮之间,以及该第一转轮与该第二镀膜装置之间;该第二滚轮单元还包括数个间隔的第二张力轮,所述第二张力轮分别位于该第一镀膜装置与该第二转轮之间,以及该第二转轮与该收料装置之间。

6.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该加热器为一个红外线加热器。

7.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该第一镀膜装置还包括数个分别位于该第一清洁机构及该第一镀膜机构周围的第一隔板,该第二镀膜装置还包括数个分别位于该第二清洁机构及该第二镀膜机构周围的第二隔板。

8.如权利要求1所述的双面卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:该第一清洁机构及该第二清洁机构皆为一个产生等离子体的等离子体系统。

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