[实用新型]定向式圆柱磁控溅射靶

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种定向式圆柱磁控溅射靶，广泛应用于各种涂层的制备设备中，属于薄膜制备技术领域。

背景技术

在专利ZL200520109094中公开了一种柱状磁控溅射靶，其基本特征在于靶材内有若干直条形永磁体平行于靶轴向安置在基体上，工作时，靶旋转而永磁体不转，或反之。

当采用定向溅射靶工作方式时，定向溅射靶的非工作区域容易发生靶中毒现象，由此造成了靶材的清理困难。

另外，在进行溅射选择性吸收涂层时，拐点电压过高，工作电压调节范围很窄，不利于工艺参数的调整；当采用大回路磁场结构工作方式时，虽然其拐点电压低，工作电压调节范围较宽，但由于其采用360°方向的溅射工作，其造成了靶材的严重浪费。

基于以上原因，故设计出本实用新型定向磁控溅射靶。

发明内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于：提供一种定向式圆柱磁控溅射靶，解决现有结构存在的容易发生靶中毒现象、以及由此造成的靶材的清理困难的问题，并解决现有结构存在的，在进行溅射选择性吸收涂层时，拐点电压过高，工作电压调节范围很窄，不利于工艺参数的调整，以及在采用大回路磁场结构工作方式时，虽然其拐点电压低，工作电压调节范围较宽，但由于其采用360°方向的溅射工作，造成了靶材的严重浪费等问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种定向式圆柱磁控溅射靶，其特征在于：包括靶材、极靴、三列溅射工作用条形永磁体、一列清靶工作用条形永磁体和两个环形永磁体，其中：

所述的三列溅射工作用条形永磁体沿极靴的周向间隔分布，并沿极靴的轴向嵌入极靴内，所述的三列溅射工作用条形永磁体的极性一致；

所述的两个环形永磁体的中心角均介于90°～150°之间，并均沿极靴的周向嵌入极靴内；

其中两条溅射工作用条形永磁体的两端与所述的两个环形永磁体的两端首尾循环连接起来，构成一个封闭框体；余下的一列溅射工作用条形永磁体位于该封闭框体外，并与形成该封闭框体的两条溅射工作用条形永磁体距离相同的中心角角度；

所述的清靶工作用条形永磁体也沿极靴的轴向嵌入极靴内，并与该余下的一列溅射工作用条形永磁体呈180°对称分布设置，清靶工作用条形永磁体位于该封闭框体内，并且该清靶工作用条形永磁体的两端均不与所述的两个环形永磁体相接触；

所述的两个环形永磁体与所述的三列溅射工作用条形永磁体的极性相同，所述的清靶工作用条形永磁体与所述的三列溅射工作用条形永磁体的极性相反。

在较佳的技术方案中：所述的环形永磁体是中心角为90°～150°的环形永磁体。

在较佳的技术方案中：所述的环形永磁体是中心角为120°的环形永磁体。

在较佳的技术方案中：所述的三列溅射工作用条形永磁体以及两个环形永磁体与极靴相连的一端均为N极，该清靶工作用条形永磁体与极靴相连的一端则为S极。

在较佳的技术方案中：所述的三列溅射工作用条形永磁体以及两个环形永磁体与极靴相连的一端均为S极，该清靶工作用条形永磁体与极靴相连的一端则为N极。

与现有技术相比较，采用上述技术方案的本实用新型具有的优点在于：通过后面的单条清靶工作用永磁体磁钢产生的磁场，在靶材非溅射工作区域形成弱溅射区，由此实现非溅射工作区域的靶材清理工作，提高了溅射过程的稳定性，使得生产过程更为安全、可靠。

附图说明

图1、图2是本实用新型提供的一种定向式圆柱磁控溅射靶的横截面图与360度展开图；

图3、图4是本实用新型提供的另一种定向式圆柱磁控溅射靶的横截面图与360度展开图。

附图标记说明：1-靶材；2-溅射工作用条形永磁体；3-极靴；4-120°环形永磁体；5-清靶工作用条形永磁体；2处-形成回路辉光；5处-形成独立辉光。

具体实施方式

图1和图2给出了本实用新型的实施例1。在本实施例中，所述的定向式圆柱磁控溅射靶，其包括靶材1、极靴3、三列溅射工作用条形永磁体2、一列清靶工作用条形永磁体5和两个120°环形永磁体4(是指中心角为120°的环形永磁体)，其中，所述的三列溅射工作用条形永磁体2沿极靴3的周向均匀分布，并沿极靴3的轴向嵌入极靴3内，所述的三列溅射工作用条形永磁体2的极性一致；