[实用新型]研磨装置有效
申请号: | 201120294220.1 | 申请日: | 2011-08-12 |
公开(公告)号: | CN202174490U | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 陈枫 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;H01L21/304 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨装置,包括研磨平台和研磨装置控制台,其特征在于,所述研磨装置还包括样品输送管和金属离子检测仪;其中,所述样品输送管的一端靠近所述研磨平台,所述样品输送管的另一端通过所述金属离子检测仪与所述研磨装置控制台连接。
2.如权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,所述金属离子检测仪为镍离子检测仪。
3.如权利要求2所述的研磨装置,其特征在于,所述镍离子检测仪包括反应管道、光电比色计、显色剂输送管和载流液输送管;其中,
所述光电比色计与所述反应管道连接;
所述研磨装置控制台与所述光电比色计连接;
所述显色剂输送管和载流液输送管分别与所述反应管道连接;
所述样品输送管与所述反应管道连接。
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