[实用新型]一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置有效
申请号: | 201120319448.1 | 申请日: | 2011-08-30 |
公开(公告)号: | CN202204762U | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 殷国富;刘培勇;李红刚 | 申请(专利权)人: | 成都四星液压制造有限公司;四川大学 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;F21V14/08 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 刘凯 |
地址: | 611732 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 检测 可调 均匀 成像 光源 装置 | ||
1.一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:包括顶部开设有孔的半球型外壳(3)、与半球型外壳(3)底部连接的底板(6)以及设置在底板(6)上、分布在半球型外壳(3)底部内侧的弧形光源组,在所述半球型外壳(3)顶部开设的孔口处设置有螺套(1),在所述螺套(1)上、半球型外壳(3)内设置有可相对螺套(1)上下移动的遮光板(2),在所述半球型外壳(3)内表面均匀的喷涂有高反光率漫反射反光材料。
2.根据权利要求1所述的用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:所述半球型外壳(3)沿轴线设置有一使之能够贴近传输带表面安装的缺口(7)。
3.根据权利要求1所述的用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:所述螺套(1)与遮光板(2)通过螺纹连接。
4.根据权利要求3所述的用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:所述半球型外壳(3)内的遮光板(2)位置可调节,在所述螺套(1)上刻有指示遮光板(2)调节位置的刻度。
5.根据权利要求1所述的用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:在所述底板(6)上、弧形光源组内侧设置有用于防止光源发出的光线直接进入镜头的遮光环(4)。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:所述弧形光源组由若干相互独立、均匀分布在所述半球型外壳(3)底部内侧的LED光源(5)组成。
7.根据权利要求6所述的用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,其特征在于:在所述底板(6)上设置有可在光源安装导轨上滑移的滑动安装孔及锁紧机构。
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