[实用新型]一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置有效
申请号: | 201120319448.1 | 申请日: | 2011-08-30 |
公开(公告)号: | CN202204762U | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 殷国富;刘培勇;李红刚 | 申请(专利权)人: | 成都四星液压制造有限公司;四川大学 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;F21V14/08 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 刘凯 |
地址: | 611732 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 检测 可调 均匀 成像 光源 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及机械工程照明技术领域,特别涉及一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置。
背景技术
磁瓦是一种铁氧体瓦状永磁材料,主要用在永磁电机上,其作用是代替励磁绕组产生磁场。由于具有结构简单、体积小、铜耗低、能耗小和使用可靠等优点,永磁电机在汽车、电动工具、电动玩具、家电、办公设备和计算机等领域应用广泛,这也使得磁瓦需求量巨大。目前,我国是最大的永磁铁氧体材料生产国家。
磁瓦是永磁电机的关键部件,其质量的好坏对永磁电机的性能有很大的影响。在出口产品中,甚至会有因个别磁瓦不合格而导致整批退货的风险。因此分拣出不合格磁瓦具有非常重要的意义。
永磁电机磁瓦生产工艺可以归纳为:预烧料制备、制粉、成型、烧结、磨加工、检分等几个步骤,很多因素都会导致磁瓦出现缺陷。在成型工序中,因为磁瓦为弧形,磁瓦模腔中磁场强度分布不均匀,以及磁粉装填不均匀导致磁粉密度不均匀,都会使磁瓦产生内应力;在烧结过程中又因收缩各向异性,使其内部应力进一步叠加而形成裂纹。磁瓦是硬度较高脆性较大的硬脆材料,在磨削过程中,由于挤压和应力释放,也会导致崩块、掉角等缺陷,也会出现偏磨欠磨等缺陷;在各生产输送过程中,由于碰撞、冲击、震动和挤压也会导致进一步发生崩裂等缺陷。
由于磁瓦种类规格繁多,形状差异很大,检测面多,产量很高,生产节拍很快,1分钟可达到120个,加之磁瓦本身缺陷种类(包括裂纹、崩烂、倒角、欠磨、起级、夹层和污渍等)很多,导致对磁瓦的在线自动检测方法迄今为止都没有取得实质性的进展,一直以来磁瓦生产厂家都还是以人工目视检测为主。这种检测方法由于动强度大,人眼容易疲劳,其精度差、效率低、误检和漏检率较高,质量控制受到人为因素的影响较大,且不稳定;同时,由于磁瓦形状不规则,尺寸较多,难于用人工进行尺寸检测,不能把尺寸不合格的磁瓦剔除,不能对磁瓦进行分等分级以提高生产效益。因此,对于磁瓦这种生产特征属于单件薄利、大批量生产的产品,迫切要求开发出快速、经济、无损、非抽样全面实时在线检测分捡设备,以达到在线高速检测,实现自动分捡以保证全优产品。
机器视觉检测技术正是这样一种先进的检测技术。随着计算机视觉、数字图像处理等信息技术的不断完善和发展,机器视觉检测已经成为工业自动化检测的主要方法。它具有快速、准确、可靠和非接触等突出优点,对提高产品检验的一致性、产品生产的安全性、降低工人劳动强度以及对实现企业的高效生产具有重要作用。
在机器视觉检测系统中,光源和照明是目前机器视觉应用系统成败的关键,好的光源照明应当具有以下特征:
1、尽可能突出目标的特征,在物体需要检测的部分与非检测部分之间尽可能产生明显的区别,增加对比度;
2、保证足够的亮度和稳定性;
3、物体位置的变化不应影响成像的质量。由于LED光源具有显色性好、发光强度高、衰减小和寿命长等优点,在机器视觉领域得到了越来越广泛的应用。
一般来说,一套视觉系统专为某型号产品设计,在光源配置、算法设计和机构设计等方面都存在特定性,并不适合一套机器检测多种产品。磁瓦规格种类很多,一个厂家就可能生产上100种,且磁瓦外形尺寸变化很大。为防止磁瓦在使用过程中出现崩块掉角损坏永磁电机的问题,磁瓦棱边均需要倒角。磁瓦端面就由一个大的弧形平面和若干个倒角面构成。由于倒角面的存在,倒角面与弧形平面对相同照射光的反射角度不同,使倒角面与平面对应的两个成像区域反射到镜头的光强不一样,导致这两个成像区域亮度不一致,一个区域亮度合适,另一个则太暗或太亮(即反光),无法进行图像识别。
要想降低成本,提高实时在线检查速度,最好是一次成像获取磁瓦倒角面与弧形平面的图像。通过大量实验,发现很难利用现成光源达到满意的效果。比如利用4块面光源从4个方向照明,并对每一块光源的照射角度进行调整,对弧度较小的磁瓦,也可以达到比较满意的效果,但由于需要对每一块光源的照射角度进行调整,需要一套计算机控制的调整机构,结构复杂;加之磁瓦规格众多,磁瓦是按订货要求分批次生产,对各个规格的磁瓦,光源所需调整角度不同,技术人员难于在短时间内现场调试获取光源所需的全部照射角度,控制难度较大;对于弧度较大的磁瓦,由于光源与照射面距离变化较大,往往会出现局部反光,很难达到满意的效果。
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