[实用新型]双波纹管结构的化学气相沉积设备有效
申请号: | 201120333710.8 | 申请日: | 2011-09-06 |
公开(公告)号: | CN202279856U | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 甘志银 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 李平 |
地址: | 528251 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波纹管 结构 化学 沉积 设备 | ||
1.一种双波纹管结构的化学气相沉积设备,包括:反应气体导入部件(1)、反应腔体(2)、腔体上盖(4)、上盖支撑(5)、闸板阀(6)、固定底板(11)、上升降板驱动(23)、上升降板驱动杆(26)、上升降板导柱(7)、上升降板(28)、上波纹管(3)、气体导入部件支撑(27)、下升降板驱动(22)、下升降板驱动杆(21)、下升降板导柱(12)、下升降板(13)、下波纹管(14)、载片盘支撑(17)、石英罩(20)、载片盘(16)、加热器支撑(18)、加热器(19)和反应腔壳体(25),其特征在于反应气体导入部件(1)由反应气体导入部件支撑(27)固定支撑,反应气体导入部件支撑(27)与上升降板(28)固定连接,反应气体导入部件支撑(27)上设有上波纹管(3),上波纹管(3)与腔体上盖(4)连接,载片盘(16)通过石英罩(20)和载片盘支撑(17)固定在下升降板(13)上,加热器(19)通过加热器支撑(18)固定在下升降板(13)上,下升降板(13)连接下波纹管(14),底板(11)上设有上升降板驱动(23)、上升降板驱动杆(26)、上升降板导柱(7)、下升降板驱动(22)、下升降板驱动杆(21)及下升降板导柱(12)。
2.根据权利要求1所述的双波纹管结构的化学气相沉积设备,其特征在于上盖支撑(5)上设有闸板阀(6)。
3.根据权利要求1所述的双波纹管结构的化学气相沉积设备,其特征在于气体导入部件(1)通过气体导入支撑(27)连接上波纹管(3)成为活动部件。
4.根据权利要求1所述的双波纹管结构的化学气相沉积设备,其特征在于所述下升降板驱动(22)和下升降板驱动杆(21)通过下升降板(13)与下波纹管(14)和加热器支撑(18)控制加热器(19)的升降运动。
5.根据权利要求1所述的双波纹管结构的化学气相沉积设备,其特征在于所述下升降板驱动(22)和下升降板驱动杆(21)通过下升降板(13)、下波纹管(14)、载片盘支撑(17)和石英罩(20)控制载片盘(16)的升降运动。
6.根据权利要求1所述的双波纹管结构的化学气相沉积设备,其特征在于所述气体导入部件(1)通过上波纹管(3)连接向上移动,使气体导入部件(1)与载片盘之间有足够的空间间距将载片台(16)通过闸板阀(6)移出。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的