[实用新型]双波纹管结构的化学气相沉积设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及光电器件制造技术领域的一种化学气相沉积设备，特别是一种双波纹管结构的化学气相沉积设备。

背景技术

化学气相沉积(CVD)技术集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、光学、化学、计算机多学科为一体，是一种自动化程度高、价格昂贵、技术集成度高的高端半导体材料、光电子器件制造专用设备。化学气相沉积设备作为化合物半导体材料外延生长的理想方法，具有质量高、稳定性好、重复性好、工艺灵活、能规模化量产等特点，已经成为业界生产半导体光电器件和微波器件的关键核心设备，具有广阔的应用前景和产业化价值。

化学气相沉积设备结构复杂，反应腔体内部也经常需要清洗维护或更换部件。此外，反应腔体是化学气相沉积设备最核心的部分，决定了整个设备的性能，随着现代技术的发展，化学气相沉积设备的反应腔体仍需要不断改进与完善。

发明内容

本实用新型的目的是针对已有技术中存在的缺陷，提供一种双波纹管结构的化学气相沉积设备。

本实用新型的技术方案一方面可以实现机械手装载石墨盘，另一方面实现反应腔体高度的调节。通过机械手装载石墨盘保持反应腔体环境的稳定，以及反应腔高度可以调节这个工艺变量，是设备在工艺多样化的同时，更具稳定性。

本实用新型包括：反应气体导入部件1、反应腔体2、腔体上盖4、上盖支撑5、闸板阀6、固定底板11、上升降板驱动23、上升降板驱动杆26、上升降板导柱7、上升降板28、上波纹管3、气体导入部件支撑27、下升降板驱动22、下升降板驱动杆21、下升降板导柱12、下升降板13、下波纹管14、载片盘支撑17、石英罩20、载片盘16、加热器支撑18、加热器19和反应腔壳体25，其特征在于反应气体导入部件1由反应气体导入部件支撑27固定支撑，反应气体导入部件支撑27与上升降板28固定连接；反应气体导入部件支撑27上设有上波纹管3，上波纹管3与腔体上盖4连接；载片盘16通过石英罩20和载片盘支撑17固定在下升降板13上；加热器19通过加热器支撑18固定在下升降板13上，下升降板13连接下波纹管14；底板11上设有上升降板驱动23、上升降板驱动杆26、上升降板导柱7、下升降板驱动22、下升降板驱动杆21及下升降板导柱12。

所述上盖支撑5上设有闸板阀6为外部机械手自动装卸圆片15提供窗口。

所述上升降板驱动23和上升降板驱动杆26可通过上升降板28和气体导入部件支撑27控制气体导入部件1的升降运动。

所述下升降板驱动22和下升降板驱动杆21可通过下升降板13与下波纹管14和加热器支撑18控制加热器19的升降运动。

所述下升降板驱动22和下升降板驱动杆21可通过下升降板13与下波纹管14、载片盘支撑17和石英罩20控制载片盘16的升降运动。

所述气体导入部件1通过上波纹管3连接可以向上移动，使气体导入部件1与载片盘之间有足够的空间间距以至于载片台16有空间可以通过闸板阀6移出。

本实用新型采用的设置上波纹管和下波纹管的双波纹管结构具有以下优点：反应气体气体导入部件、加热器、载片盘均能进行升降运动，既能为化学气相沉积工艺进行反应腔体高度调节，也能为设备维修拆卸提供便利，上盖支撑上设置的闸板阀也能为外部机械手自动装卸圆片提供窗口。

附图说明

图1本实用新型的结构示意图；

图2在图1基础上上升降板和下升降板上升运动后的状态示意图。

图中：1反应气体导入部件、2反应腔体、3上波纹管、4腔体上盖、5上盖支撑、6闸板阀、7上升降板导柱、8冷却水出口、9冷却水流道、10反应尾气出口、11固定底板、12下升降板导柱、13下升降板、14下波纹管、15圆片、16载片盘、17载片盘支撑、18加热器支撑、19加热器、20石英罩、21下升降板驱动杆、22下升降板驱动、23上升降板驱动、24冷却水入口、25反应腔壳体、26上升降板驱动杆、27气体导入部件支撑、28上升降板。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本实用新型的实施例。

参见图1，本实用新型包括反应气体导入部件1、反应腔体2、腔体上盖4、上盖支撑5、闸板阀6、固定底板11、上升降板驱动23、上升降板驱动杆26、上升降板导柱7、上升降板28、上波纹管3、气体导入部件支撑27、下升降板驱动22、下升降板驱动杆21、下升降板导柱12、下升降板13、下波纹管14、载片盘支撑17、石英罩20、载片盘16、加热器支撑18、加热器19。