[实用新型]超声波清洗容器有效
申请号: | 201120334857.9 | 申请日: | 2011-09-07 |
公开(公告)号: | CN202224399U | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 柴求军;余文军 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 李时云;屈蘅 |
地址: | 430205 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超声波 清洗 容器 | ||
1.一种超声波清洗容器,包括外容器、内容器和若干液位传感器,所述内容器位于所述外容器的内部,其特征在于,还包括传感器调整定位机构,所述若干液位传感器通过传感器调整定位机构安装于所述外容器的外壁。
2.根据权利要求1所述的超声波清洗容器,其特征在于,所述传感器调整定位机构包括滑槽和若干与所述液位传感器相应数量的定位组件,所述滑槽固定设置于所述外容器的外壁,所述定位组件包括定位片和固定片,所述定位片夹设于所述滑槽内,所述固定片设置于所述滑槽的外侧,所述液位传感器的外周面设有外螺纹,所述定位片和固定片分别设有供相应的液位传感器旋入的螺纹孔,所述液位传感器分别依次穿设于相应的所述固定片和相应的所述定位片。
3.根据权利要求2所述的超声波清洗容器,其特征在于,所述滑槽包括一对开口相对的凹槽,所述凹槽之间的距离大于所述液位传感器的外径。
4.根据权利要求1所述的超声波清洗容器,其特征在于,所述若干液位传感器由下至上依次设置于所述外容器的外壁。
5.根据权利要求4所述的超声波清洗容器,其特征在于,所述超声波清洗容器包括四只液位传感器,由下至上依次是低低液位传感器、低液位传感器、高液位传感器和高高液位传感器。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的超声波清洗容器,其特征在于,还包括一连通器,所述连通器与所述外容器的底部相连。
7.根据权利要求6所述的超声波清洗容器,其特征在于,所述连通器采用透明材质制成。
8.根据权利要求6所述的超声波清洗容器,其特征在于,所述连通器的外表面设有刻度。
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