[实用新型]输送起伏式的化学浴沉积设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种化学浴沉积设备，尤其是一种涉及利用高低连绵起伏的基板传送方式，使药液可均匀地覆盖于基板上，进而使基板上形成具有薄膜厚度均一性良好的化学浴沉积设备。

背景技术

现今电子工业迅速发展，许多电子产品都需要应用到物理沉积技术或化学沉积技术。另外全世界面临石油能源耗竭、成本高昂及环保等问题，造成太阳能与氢能源燃料电池的需求与日俱增，由于太阳能电池制造时，必须在一基材上构成多种沉积层(薄膜)，才能有效的发挥其功能，足见沉积制程为电子产业及民生产业一个极为要的关键技术。

现有的化学浴沉积(Chemical Bath Deposition，CBD)制程及其设备为沉积技术之一，其将表面预作处理的一基材(例如单、多晶硅基板、非晶硅基板等)浸入化学药液中持续一定时间，在该基材表面沉积形成半导体薄膜。但现有的化学浴沉积设备，将基材完全浸入化学药液之中，如此将导致该基材双面都成膜，然而该基材实际应用上只需要其中一面已足，多余部分形同资源的浪费，并导致制造成本增加。

图1为现有技术的化学浴沉积设备的示意图。化学浴沉积设备包含有输送单元20及热水浴槽30，输送单元20用于传送药液盒40，其中输送单元20由多个输送滚轮201组成，该药液盒40由基板401及药液盖403组装密合而成，药液盒40并注入有可覆盖于基板401上的药液50，如此基板401只有一面受到药液50的覆盖。

热水浴槽30内具有热水浴301，热水浴301具有液面3011，而输送滚轮201则设置于该热水浴301液面3011之下，输送滚轮201在传送药液盒40时，药液盒40的部份会浸泡于热水浴301中，由于在药液盒40内的药液50在传送过程中受到热水浴301的加热作用，进而促使药液50进行化学沉积作用。

然而现有技术的缺点在于薄膜沉积厚度不均匀的问题，其因为当药液注入于药液盒时，药液无法均匀地分散于基板上，如果要让基板上各处都被药液覆盖，必须增加更多的药液量，但药液量增加会导致基板形变甚至破裂，因此本实用新型提供一种在不增加药液量的情形下，可使药液可均匀分布于基板上的化学浴沉积设备，进而提升薄膜厚度的均一性。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种输送起伏式的化学浴沉积设备，其中利用高低连绵起伏的基板传送方式，使药液可均匀地覆盖于基板上，进而使基板上形成具有薄膜厚度均一性良好的化学浴沉积设备。

为达上述目的，本实用新型的具体技术手段包含有一传送单元及一盛放有溶液的浴槽，该传送单元设置于浴槽中用以传送一药液盒，该药液盒由一基板及一药液盖组装密合而成，该药液盒注入一药液以使药液覆盖于该基板上，其中该传送单元由多个输送滚轮组成，该多个输送滚轮的配置低于该溶液的液面并以高低连绵起伏的排列方式而配置。

藉由上述设备，本实用新型可有效解决现有技术的缺失，并提升薄膜沉积的均一性。

附图说明

图1为现有技术的化学浴沉积设备的示意图；

图2为本实用新型的输送起伏式的化学浴沉积设备的侧面示意图；

图3为本实用新型的输送起伏式的化学浴沉积设备的药液盒传送示意图；

图4为本实用新型的输送起伏式的化学浴沉积设备的第一实施例示意图；以及

图5为本实用新型的输送起伏式的化学浴沉积设备的第二实施例示意图。

具体实施方式

以下配合说明书附图对本实用新型的实施方式做更详细的说明，以使本领域技术人员在研读本说明书后能据以实施。

参考图2，图2为本实用新型的输送起伏式的化学浴沉积设备的侧面示意图。本实用新型的化学浴沉积设备1主要用于在制作太阳能电池的基板上沉积至少一层薄膜，利用输送滚轮31高低起伏的排列方式来传送基板，使基板上的药液可均匀地且持续性的动态性的扩散以覆盖于基板的各处上，使薄膜可以均匀地于成长于基板表面上而提升薄膜厚度的均一性。

参考图3，图3为本实用新型的输送起伏式的化学浴沉积设备的药液盒传送示意图。该输送起伏型的化学浴沉积设备1至少包含有一传送单元3及一浴槽5，该传送单元3设置于该浴槽5中，该传送单元3用于传送一药液盒7，该药液盒7至少由一基板71及一药液盖73组装密合而成，其中该基板71为非晶硅基板、单晶硅基板、多晶硅基板、微晶硅基板或砷化镓基板的至少其中之一。