[实用新型]阵列基板的检测设备有效
申请号: | 201120378351.8 | 申请日: | 2011-09-27 |
公开(公告)号: | CN202230272U | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 曹宇;魏广伟;黄雄天;唐涛 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G01N21/84 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 检测 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶显示器领域,尤其涉及一种阵列基板的检测设备。
背景技术
利用光学检测设备对阵列基板进行检测,是当前液晶显示屏生产过程中广泛采用的一种技术。如图1所示,现有的光学检测设备6的原理是:光源1发出的光经过光亮和色度调节器2、光源直线合成器3和光源角度调节器4后投射到待测阵列基板7上,待测阵列基板7将光反射入光接收器5中成像,再利用与光接收器5连接的图像处理系统进行处理,将所得待测阵列基板上每个像素的图像的灰度与周围的若干像素进行对比,从而检出与周围像素图像不一致的异常像素,为后续的修复工艺提供数据,以减少阵列基板上的不良数目,使其品质得到提升。
但是,由于是利用光学设备进行检测,并不能模拟液晶显示屏的工作状态,因此,其检出不良中,很大一部分并不会对该像素的显示功能产生明显影响,也无需进行修复,如在搬运过程中落在基板上的漂浮型灰尘颗粒,漂浮型灰尘颗粒在所有检出的不良数量中占很大一部分比例,这部分数据对后续修复工艺而言,加大了工作量,并且对改善产品品质作用不大。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种阵列基板的检测设备,在检测设备中加入除尘设备,在光学检测设备在检测待测区域前,将待测区域的漂浮型灰尘颗粒吸除,避免了漂浮型灰尘颗粒不良的检出,提高了后续修复工艺的效率,降低了生产成本。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一种阵列基板的检测设备,包括:光学检测设备,在所述光学检测设备外 的至少一侧设置有用于吸除阵列基板上的漂浮型灰尘颗粒的除尘装置。
所述除尘装置包括:用于吸除所述漂浮型灰尘颗粒除尘口和用于产生除尘吸力的除尘动力系统,所述除尘口与除尘动力系统相连接。
所述除尘装置还包括:用于控制所述除尘口的开启和关闭的除尘口控制装置。
所述除尘动力系统包括:用于过滤所述漂浮型灰尘颗粒的过滤器、用于产生除尘吸力的真空泵、用于控制所述真空泵开启、关闭并调整吸气量的控制装置、用于连接所述除尘口和所述过滤器的第一管道、用于连接所述过滤器和所述真空泵的第二管道和用于排出所述真空泵内气体的第三管道,所述第一管道一端与所述除尘口连接,所述第一管道另一端连接所述过滤器的入口,所述过滤器的出口连接所述第二管道一端,所述第二管道另一端与所述真空泵的入口相连,所述真空泵的出口连接所述第三管道,所述真空泵与所述控制装置连接。
所述除尘装置底部与所述光学检测设备底部对齐。
所述除尘装置底部距离阵列基板15μm至20μm。
本实用新型实施例,在阵列基板的检测设备中加入除尘设备,在光学检测设备在检测待测区域前,将待测区域的漂浮型灰尘颗粒吸除,从而避免了光学检测设备在对该区域进行检测时,漂浮型灰尘颗粒不良被检测出来,提高了后续修复工艺的效率,降低了生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有光学检测设备的原理示意图;
图2为本实用新型实施例中阵列基板的检测设备的结构示意图;
图3为本实用新型实施例中光学检测设备移动方向示意图;
图4为本实用新型实施例中除尘装置的结构示意图。
附图标记说明
1、光源2、光亮和色度调节器3、光源直线合成器4、光源角度调节器5、光接收器6、光学检测设备7、待测阵列基板8、除尘口81、前侧除尘口82、后侧除尘口9、第一管道10、过滤器11、第二管道12、真空泵13、第三管道14、支架15、移动装置20、除尘动力系统
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供一种阵列基板的检测设备,如图2所示,该设备包括:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120378351.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:丝网印刷方法及丝网印刷装置
- 下一篇:陶瓷生坯物件的快速干燥