[实用新型]一种薄膜结构有效
| 申请号： | 201120406921.X | 申请日： | 2011-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN202388966U | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 李书铭;吴家铭;蔡国龙;王顺程 | 申请（专利权）人： | 岱纬科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00;B32B27/06;B32B27/18 |
| 代理公司： | 广州中浚雄杰知识产权代理有限责任公司 44254 | 代理人： | 张少君 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜结构，所述薄膜结构包括有：
一基层；
一适刮层，所述适刮层设于基层一表面，且适刮层远离基层的另一表面形成有刷纹；
一离型层，所述离型层设于适刮层具有刷纹的表面；
一硬镀层，所述硬镀层设于离型层另一表面并远离所述适刮层；
一装饰层，所述装饰层设于硬镀层另一表面并远离所述离型层；及
一黏着层，所述黏着层设于装饰层另一表面并远离所述硬镀层。
2.根据权利要求1所述的一种薄膜结构，其特征在于：所述适刮层包含有微米级的粒子的高分子涂层。
3.根据权利要求1所述的一种薄膜结构，其特征在于：所述适刮层其厚度可为3～7um。
4.根据权利要求1所述的一种薄膜结构，其特征在于：所述适刮层的刷纹深度为1～10um。
5.根据权利要求4所述的一种薄膜结构，其特征在于：所述适刮层的刷纹深度为2～6um。
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