[实用新型]一种盖板、湿法刻蚀槽和湿法刻蚀设备有效

专利信息
申请号: 201120516758.2 申请日: 2011-12-12
公开(公告)号: CN202363434U 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 周伯柱;郑载润;吴代吾;王世凯;訾玉宝;张洪波;耿军;刘剑钊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗建民;邓伯英
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 盖板 湿法 刻蚀 设备
【权利要求书】:

1.一种盖板,其特征在于包括:上盖板和下盖板。

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述上盖板和下盖板对合设置,对合设置的所述上盖板和下盖板的周边密闭,所述上盖板和下盖板之间保留预设空间。

3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,所述上盖板设置有排气管口,所述排气管口连接到外部抽气装置。

4.根据权利要求3所述的盖板,其特征在于,所述下盖板上设置有通孔。

5.根据权利要求4所述的盖板,其特征在于,所述下盖板与所述上盖板相对应一侧的表面为凹凸结构,所述通孔贯穿所述凹凸结构中的凸起位置。

6.根据权利要求5所述的盖板,其特征在于,所述凹凸结构包括至少两排凸件,相邻两排凸件之间为凹槽。

7.根据权利要求1-6任一所述的盖板,其特征在于,所述通孔为圆形孔,所述圆形孔的直径在3-15mm之间。

8.一种湿法刻蚀槽,其特征在于包括权利要求1-7任一所述的盖板。

9.一种湿法刻蚀设备,其特征在于包括权利要求8所述的湿法刻蚀槽。

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