[实用新型]低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201120545489.2 | 申请日： | 2011-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN202390316U | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 林嘉宏 | 申请（专利权）人： | 林嘉宏 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 中国台湾台北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 镀膜 玻璃 | ||
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，其特征在于，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：
第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。
2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层为Cu层，所述第二功能层为Ag层。
3.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层为Si3N4、ZnSnO3、TiO2或者SiOxNy膜层中的一种。
4.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层、第三电介质层为ZnO层。
5.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层的为NiCr、AZO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种。
6.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述中间电介质组合层为ZnSnO3膜层、Si3N4膜层中的一种或者由ZnSnO3膜层和Si3N4膜层的组合层构成。
7.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二阻挡层为NiCr、ZnAlO、Ti、Nb2O5或NiCrOx膜层中的一种。
8.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述顶层下电介质层为ZnSnO3层。
9.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述顶层上电介质层为Si3N4层。
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