[实用新型]低辐射镀膜玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及玻璃深加工中的镀膜技术领域，具体是一种低辐射镀膜玻璃。

背景技术

传统的低辐射玻璃往往都是双银镀膜玻璃的结构，具体结构包括：玻璃基底和在玻璃基底上依次向上沉积的第一介电质层、银膜层、第一阻挡层、第二介电质层、银膜层、第二阻挡层，以及第三介电质层，按照所述结构生产的镀膜玻璃其透过色呈蓝绿色，此玻璃用于建筑后，透过此玻璃，从室内往室外看时，外界的物体也被增添了蓝绿色调，使得外界景物发生色变。

发明内容

本实用新型的技术目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种新型的低辐射镀膜玻璃，使镀膜后的玻璃呈自然色。

本实用新型的技术方案为：

一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀制在玻璃基片上的膜系，其特征在于，所述膜系自玻璃基片向外依次包括：

第一电介质层、第二电介质层、第一功能层、第一阻挡层、中间电介质组合层、第三电介质层、第二功能层、第二阻挡层、顶层下电介质层、顶层上电介质层。

作为优选的技术方案：

所述第一功能层为Cu层，所述第二功能层为Ag层;

所述第一电介质层可设为Si₃N₄、ZnSnO₃、TiO₂或者SiOxNy膜层中的一种；

所述第二电介质层、第三电介质层为ZnO层；

所述第一阻挡层的为NiCr、AZO、Ti、Nb₂O₅或NiCrOx膜层中的一种；

所述中间电介质组合层为ZnSnO₃、Si₃N₄膜层中的一种或者二者的组合层；

所述第二阻挡层设为NiCr、AZO、Ti、Nb₂O₅或NiCrOx膜层中的一种；

所述顶层下电介质层为ZnSnO₃层；

所述顶层上电介质层为Si₃N₄层。

一种用于制造上述低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

在所述玻璃基片上镀制Si₃N₄、ZnSnO₃、TiO₂或者SiOxNy膜层中的一种作为第一电介质层；

在所述第一电介质层上镀制作为第二电介质层的ZnO层；

在所述第二电介质层上镀制作为第一功能层的Cu层；

在所述第一功能层上镀制NiCr、AZO、Ti、Nb₂O₅或NiCrOx膜层中的一种作为第一阻挡层；

在所述第一阻挡层上镀制ZnSnO₃、Si₃N₄膜层中的一种或者二者的组合层层作为中间电介质组合层；

在所述中间电介质组合层上镀制第三电介质层的ZnO层；

在所述第三电介质层上镀制第二功能层的Ag层；

在所述第二功能层上镀制NiCr、AZO、Ti、Nb₂O₅或NiCrOx膜层中的一种作为第二阻挡层；

在所述第二阻挡层上镀制作为顶层下电介质层的ZnSnO₃层；

在所述顶层下电介质层上镀制作为顶层上电介质层的Si₃N₄层；

上述玻璃结构中，Si₃N₄层使用质量百分比为92:8的硅铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氮氛围中溅射沉积，功率为20-80kw，电源频率为20-40kHz；

SiOxNy层使用质量百分比为92:8的硅铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氮、氧氛围中溅射沉积，功率为20-80kw，电源频率为20-40kHz；

AZO层使用陶瓷锌铝靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氧氛围中溅射沉积，功率为5-15kw，电源频率为20-40kHz；

ZnSnO3层使用质量百分比为50:50的锌锡合金靶，采用双旋转阴极、中频反应磁控溅射方式在氩、氧氛围中溅射沉积，功率为10-70kw，电源频率为20-40kHz；

NiCrOx层使用镍铬合金靶，采用平面阴极、直流磁控溅射方式在纯氩氛围中溅射沉积，功率为2-10kw；