[实用新型]石膏型卤水连续净化装置

权利要求书

1.一种石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：

包括依次连接的预混设备、连续反应设备、絮凝设备和澄清设备，其中，所述预混设备包括一个原料输入口和一个出料口，所述连续反应设备是由多个反应发生器组成多级反应器，多级反应发生器的第一级反应发生器的入口与上述预混设备的出料口连通，最后一级反应发生器上设置有出料口，所述絮凝设备的入口与上述最后一级反应发生器上的出料口连通，絮凝设备下端分别设置有液体物质出料口和固体物质出料口，所述澄清设备的入口与所述絮凝设备的液体物质出料口连通，还包括石灰乳加药系统，所述石灰乳加药系统的出口与连续反应设备中的至少一个反应发生器连通。

2.根据权利要求1所述的石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：所述预混设备为预混桶，石灰乳加药系统的出口还与预混桶相连，且石灰乳加药系统的加药管道出口设置在预混桶出口的正上方。

3.根据权利要求1所述的石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：所述多级反应发生器，包括至少四级反应发生器，其中前一级反应发生器的出口与后一级反应发生器的入口连通，且相邻反应发生器的出口呈上、下间隔设置。

4.根据权利要求3所述的石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：在每级反应发生器底部内侧均设置列管，且列管上设置有孔；在每级反应发生器的四个直角都设置了倒角。

5.根据权利要求3所述的石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：在连续多级反应发生器的底部设置斜板沉降装置，并在底部设置有沉淀收集槽。

6.根据权利要求3所述的石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：所述的絮凝设备为絮凝剂反应发生器，所述絮凝剂反应发生器底部设置有斜板沉降装置，并在底部设置有沉淀收集槽。

7.根据权利要求3所述的石膏型卤水连续净化装置，其特征在于：所述澄清设备为澄清池，所述澄清池的入口位于其下端，澄清池底部设置有斜板沉降装置和沉淀收集槽，澄清池中部设置有斜管澄清管。