[实用新型]一种使薄膜无间隙平整贴敷于目标基底的装置

说明书

技术领域

本适用新型涉及一种使薄膜无间隙平整贴敷于目标基底的装置，特别是使石墨烯薄膜无间隙平整贴敷于目标基底的装置。

背景技术

石墨烯由于具有优异的力学、热学、电学和磁学性能，有望在高性能纳电子器件、复合材料、场发射材料、气体传感器、能量储存等领域获得广泛应用。现有的石墨烯生产装置，尤其是用于腐蚀金属基底的装置中，由于使用人工方法捞片，常造成薄膜在接触目标基底时起皱，留下气泡而使贴敷失败，从而影响石墨烯薄膜制备的成品率和关键性能指标。

实用新型内容

本实用新型提供一种能使薄膜无间隙平整贴敷于目标基底的装置，该装置包括：

一个箱体，用于容纳溶液；

一个承载板，用于承载目标基底，所述承载板的一端可动连接于箱体的一个侧壁上；

至少一个悬吊装置，所述悬吊装置与所述承载板的另一端相连；

至少一个牵引装置，所述牵引装置与所述悬吊装置一一对应，用于拉起或放下所述悬吊装置；以及

至少一个薄膜定位装置。

通过使用本实用新型的装置，可使漂浮在溶液表面的薄膜平整地贴敷在目标基底上。所述装置和方法可以稳定地完成薄膜与目标基底的无缺陷粘贴，适于大规模复合薄膜的生产。

附图说明

图1为本实用新型装置的一个示例性实施方案的剖面图。

图2为图1所示装置的俯视图。

其中，附图标记具有以下含义：

1.溶液；

2.用于调整薄膜漂浮位置的气体喷嘴；

3.用于承载目标基底的承载板；

4.薄膜；

5.箱体；

6.牵引装置；

7.悬吊装置；

8.搭扣。

具体实施方式

下文将结合附图对本实用新型进行详细说明。但应理解的是，所述附图仅为示例性的，不应解释为限制本实用新型的范围。

本实用新型提供一种能使薄膜无间隙平整贴敷于目标基底的装置，该装置包括：

一个箱体，用于容纳溶液；

一个承载板，用于承载目标基底，所述承载板的一端可动连接于箱体的一个侧壁上；

至少一个悬吊装置，所述悬吊装置与所述承载板的另一端相连；

至少一个牵引装置，所述牵引装置与所述悬吊装置一一对应，用于拉起或放下所述悬吊装置；以及

至少一个薄膜定位装置。

在具体的实施方案中，承载板与箱体的可动连接优选为可转动连接，例如通过搭扣或铰链结构等实现。本实用新型装置对于连接方式无特别的限制，只要承载板可基本围绕箱体的一个固定位置转动即可。视操作需要，转动角度可在0-180°范围内，也可在0-360°范围内，优选在0-360°范围内。承载板与箱体的连接点优选位于正常操作时的液面以上，更优选在箱体壁的上缘附近，以便于承载板的转动，并防止连接部件与溶液的接触。

所述承载板上优选地带有固定部件，如凸缘等，以固定目标基底在其上的位置。目标基底在承载板上的位置是预先确定的，优选应使得目标基底与薄膜完全贴合后，二者的位置基本对正，或使得薄膜基本位于目标基底的中央。

所述悬吊装置例如可为悬挂杆或悬挂线。本实用新型对其没有特别的限制，只要其材质适于与所述溶液长期接触并实现所需的牵拉功能即可。

所述牵引装置例如可为电机、气缸或滑轮等。

本实用新型装置优选具有多个悬吊装置和牵引装置，更优选具有两个悬吊装置和牵引装置。

所述薄膜定位装置例如可为喷嘴。所述喷嘴优选地均匀分布于箱体除连接承载板一侧外的其余三个侧壁上高于液面处，通过喷嘴喷出气体而对薄膜进行定位。优选地，对气体喷出的速度进行调节，避免对薄膜产生较大的扰动。气体速度可通过气体调节阀来控制。

使用本实用新型装置具有如下优点：1.针对不同的溶液粘度和表面张力，可以通过调节悬吊装置的升降速度，来调节溶液沿目标基底表面排开的速度，从而防止排水速度过快而造成的对薄膜的扰动；2.多个悬吊装置可以同步启动，也可以顺序启动，使承载板升起过程有左右的轻度扭转，便于薄膜在目标基底上的贴敷；3.薄膜在溶液中悬浮的位置可通过箱体壁上的多个定位装置来调整，所述定位装置可按需要分布于箱体壁上，优选均匀地分布，并可以通过气体调节阀来控制气体喷出的速度。