[实用新型]一种掩模板及其检测系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及掩模板技术领域，尤其涉及一种掩模板及其检测系统。 

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器件（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT LCD）和有机电致发光器件（Organic Light Emitting Device，OLED）阵列工艺生产过程中，光刻技术扮演了重要的角色。光刻技术，是将设置好的图案制作成具有特定形状可透光的掩模，利用曝光原理，使光源通过掩模投影至显示器件上，可曝光显示特定的图案。 

在阵列工艺过程中，通常一种型号的产品（显示器）需要至少4次以上的成膜、光刻、刻蚀、剥离的循环过程。对单个型号产品而言，每次光刻工艺都需要一个唯一的掩模板存放在曝光设备上。当生产一种型号产品时，曝光设备上一般需储存不止一个掩模板的位置信息；当同时生产多个型号的产品时，曝光设备需储存较多的掩模板的位置信息。在一次阵列工艺过程中存在不同掩模板之间的切换，如果在某一次光刻工艺过程中放错了掩模板，后续受损的产品将是批量性的，造成的损失巨大且无法挽回。 

现有的掩模板的光刻工艺的曝光过程如下： 

人工确认曝光设备设定位置处存放的掩模板是否正确； 

搬送装置将掩模板搬送到用于承载掩模板的设备基台上； 

主设备对掩模板实施对位补正； 

主设备对掩模板实施曝光作业。 

在人工确认掩模板是否正确时，存在主观判断因素，差错不可避免，一旦造成差错，后续工艺受损的产品将是批量性的，将造成巨大损失。 

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种掩模板及其检测系统，用以有效避免掩模板切换过程中出现的切换错误的掩模板的问题。 

本实用新型实施例提供的一种掩模板，在该掩模板的两个长边和/或短边，分别设置有卡扣槽。 

本实用新型实施例提供的一种掩模板的检测系统，用于检测权利要求1至3任一权项所述的掩模板，包括：用于支撑所述掩模板的设备基台、卡件、卡件带动装置、活动装设于卡件上的卡头部、卡头部驱动装置、控制单元，以及第一报警单元； 

所述卡件带动装置，用于根据所述控制单元的控制，带动所述卡件从卡件初始纵向位置移动到所述控制单元中预设的掩模板的卡扣槽的纵向位置； 

所述卡头部驱动装置，用于根据所述控制单元的控制，带动所述卡头部从卡头部初始横向位置移动到所述控制单元中预设的掩模板的横向位置； 

所述第一报警单元，用于当卡头部的抵顶到掩模板边缘时，发出调整掩模板提示信息。 

本实用新型实施例提供的一种掩模板，在该掩模板的两个长边和/或短边，分别设置有卡扣槽。本实用新型还提供了与该掩模板相对应的检测系统，当掩模板放置于支撑该掩模板的设备基台上时，所述掩模板检测系统检测所述设备基台上放置的掩模板是否正确，如果放置错误则发出请求调整掩模板的报警，避免人工检测存在的误检，提高检测效率及准确率。 

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种掩模板结构示意图； 

图2为本实用新型实施例提供的一种掩模板结构示意图； 

图3为本实用新型实施例提供的卡件和卡头部与掩模板位置关系结构示意 图； 

图4为本实用新型实施例提供的卡件和卡头部与掩模板位置关系结构示意图； 

图5为本实用新型实施例提供的卡件和卡头部与掩模板位置关系结构示意图； 

图6为本实用新型实施例提供的卡件和卡头部与掩模板位置关系结构示意图。 

具体实施方式

本实用新型实施例提供了一种掩模板及其检测系统，用以有效避免掩模板切换过程中出现的切换了错误的掩模板的问题。 

本实用新型实施例提供的掩模板及其检测系统可以适用于TFT LCD或OLED。 

本实用新型实施例提供的掩模板，在该掩模板的两个长边和/或短边，分别设置有卡扣槽。 

较佳地，所述掩模板相对的两个边上的卡扣槽镜像对称。 

参见图1，为在两个长边分别设置有一个卡扣槽11的掩模板1。 

较佳地，两个卡扣槽11镜像对称。 

较佳地，参见图2，卡扣槽11位于掩模板1的外围非像素区域13，图2中阴影部分为掩模板的像素区域。