[实用新型]直线式卷绕真空镀膜装置

权利要求书

1.直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为放卷室，最后一个真空室为收卷室，放卷室和收卷室之间设有镀膜室；放卷室内设置放卷辊，收卷室内设置收卷辊；放卷室与其相邻的真空室之间设有第一真空锁，收卷室与其相邻的真空室之间设有第二真空锁。

2.根据权利要求1所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述多个真空室还包括第一离子轰击处理室、第一烘烤室、第二烘烤室和第二离子轰击处理室，按照薄膜的输送方向，放卷室、第一离子轰击处理室、第一烘烤室、镀膜室、第二烘烤室、第二离子轰击处理室和收卷室依次设置。

3.根据权利要求2所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室有3个，3个镀膜室呈直线排列并设于第一烘烤室和第二烘烤室之间，3个镀膜室结构相同。

4.根据权利要求2所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内设有平面靶和掩模机构，掩模机构设于平面靶下方，掩模机构下方为薄膜。

5.根据权利要求4所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述掩模机构为固定式掩模机构，包括掩模架、收丝盘和放丝盘，掩模架为四边形结构，掩模架的左右两侧边上设有多个缠绕辊，收丝盘和放丝盘分别设于掩模架右侧边的两端上，掩模丝从放丝盘放出后，经过多个缠绕辊缠绕固定，掩模丝的末端缠绕于收丝盘上。

6.根据权利要求4所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述掩模机构为同步式掩模机构，包括掩模架、放丝轴、收丝轴和压丝辊，掩模架为四边形结构，放丝轴和收丝轴分别设于掩模架的左右两边，放丝轴上设有多个放丝盘，收丝轴上设有多个收丝盘，放丝盘和收丝盘一一对应设置，放丝轴的输出端和收丝轴的输入端分别设有压丝辊，各个放丝盘的输出端还相应设有一个张紧轮。

7.根据权利要求1所述的直线式卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述第一真空锁和第二真空锁结构相同，包括定块、上滑组件和下滑组件，定块中部开有与真空室的通孔相对应的定块通孔，上滑组件和下滑组件分别与定块连接，上滑组件和下滑组件对称设于真空室的通孔的上下两侧，上滑组件设于真空室的通孔上方，下滑组件设于真空室的通孔下方；上滑组件包括上滑块、上导向块和上气缸，上滑块一侧与定块滑动连接，上滑块另一侧与上导向块滑动连接，上导向块为倒L形结构，上导向块顶部与定块顶面固定连接，上气缸输出端与上滑块顶部固定连接，定块与上滑块相接触的一面设有滑轮，上滑块上相应设有滑槽；上导向块的侧面底部设有滚轮，上滑块与滚轮相接触；下滑组件的结构与上滑组件对称，包括下滑块、下导向块和下气缸，下滑块与上滑块对称设于真空室通孔的上下两侧，下滑块一侧与定块滑动连接，下滑块另一侧与下导向块滑动连接，下导向块为L形结构，下导向块底部与定块底面固定连接，下气缸输出端与下滑块底部固定连接。