[实用新型]直线式卷绕真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及卷绕真空镀膜技术领域，特别涉及一种直线式卷绕真空镀膜装置。

背景技术

目前常用于薄膜镀膜的装置一般为筒式真空设备，该设备只设有一个圆筒状的真空室，真空室内设置放卷辊、收卷辊及薄膜导辊等机构，薄膜的整个镀膜工艺(包括烘干、镀膜等)均在该真空室内完成。该筒式真空设备在实际生产应用中存在以下缺陷：

(1)该设备结构复杂，设备维护成本高；

(2)该设备的真空室内空间小，只能适用于材质较软的薄膜材料的镀膜加工，对于材质较硬的材料(如薄片铜板等)不适用；

(3)该设备只设有一个真空室，当镀膜完成需要更换新材料时，打开真空室后容易破坏整个生产工艺的真空气氛，影响后续镀膜工艺的正常进行，也容易影响产品质量。

(4)该设备只设有一个真空室，所以薄膜镀膜时只有镀膜和烘干的工艺可以在该真空室内进行，而薄膜的清洗等工艺必须采用其它设备另外处理，使得工艺复杂，薄膜的清洁度也难以得到控制。同时，当需要对薄膜进行掩模处理时，该设备也无法实现此工艺。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种维护成本较低、适用范围也较广的直线式卷绕真空镀膜装置。

本实用新型的技术方案为：一种直线式卷绕真空镀膜装置，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为放卷室，最后一个真空室为收卷室，放卷室和收卷室之间设有镀膜室；放卷室内设置放卷辊，收卷室内设置收卷辊；放卷室与其相邻的真空室之间设有第一真空锁，收卷室与其相邻的真空室之间设有第二真空锁。

所述多个真空室还包括第一离子轰击处理室、第一烘烤室、第二烘烤室和第二离子轰击处理室，按照薄膜的输送方向，放卷室、第一离子轰击处理室、第一烘烤室、镀膜室、第二烘烤室、第二离子轰击处理室和收卷室依次设置。

所述镀膜室有3个，3个镀膜室呈直线排列并设于第一烘烤室和第二烘烤室之间，3个镀膜室结构相同。

所述镀膜室内设有平面靶和掩模机构，掩模机构设于平面靶下方，掩模机构下方为薄膜。

所述掩模机构为固定式掩模机构，包括掩模架、收丝盘和放丝盘，掩模架为四边形结构，掩模架的左右两侧边上设有多个缠绕辊，收丝盘和放丝盘分别设于掩模架右侧边的两端上，掩模丝从放丝盘放出后，经过多个缠绕辊缠绕固定，掩模丝的末端缠绕于收丝盘上。

所述掩模机构为同步式掩模机构，包括掩模架、放丝轴、收丝轴和压丝辊，掩模架为四边形结构，放丝轴和收丝轴分别设于掩模架的左右两边，放丝轴上设有多个放丝盘，收丝轴上设有多个收丝盘，放丝盘和收丝盘一一对应设置，放丝轴的输出端和收丝轴的输入端分别设有压丝辊，各个放丝盘的输出端还相应设有一个张紧轮。

所述第一真空锁和第二真空锁结构相同，包括定块、上滑组件和下滑组件，定块中部开有与真空室的通孔相对应的定块通孔，上滑组件和下滑组件分别与定块连接，上滑组件和下滑组件对称设于真空室的通孔的上下两侧，上滑组件设于真空室的通孔上方，下滑组件设于真空室的通孔下方；上滑组件包括上滑块、上导向块和上气缸，上滑块一侧与定块滑动连接，上滑块另一侧与上导向块滑动连接，上导向块为倒L形结构，上导向块顶部与定块顶面固定连接，上气缸输出端与上滑块顶部固定连接，定块与上滑块相接触的一面设有滑轮，上滑块上相应设有滑槽；上导向块的侧面底部设有滚轮，上滑块与滚轮相接触；下滑组件的结构与上滑组件对称，包括下滑块、下导向块和下气缸，下滑块与上滑块对称设于真空室通孔的上下两侧，下滑块一侧与定块滑动连接，下滑块另一侧与下导向块滑动连接，下导向块为L形结构，下导向块底部与定块底面固定连接，下气缸输出端与下滑块底部固定连接。该真空锁使用时，其原理是：上气缸动作，驱使上滑块向下滑动，定块上的滑轮与上滑块上的滑槽相配合，定块上的滑轮和上导向块上的滚轮同时对上滑块其导向作用；下滑组件的运动原理与上滑组件相同，下滑块的运动方向与上滑块相反，上滑块的底面与下滑块的顶面相接触时实现锁紧密封。

本直线式卷绕真空镀膜装置使用时，其工艺原理是：放卷室内的放卷辊放出薄膜后，先进入第一离子轰击处理室进行表面清洁处理，然后送入第一烘烤室进行烘干处理，再进入镀膜室内进行镀膜；镀膜完成后，薄膜先送入第二烘烤室进行烘干处理，再送入第二离子轰击处理室进行表面处理，使膜层更为结实，最后送入收卷室收卷。

本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果：