[发明专利]玻璃基板的不均率测量系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及向玻璃基板照射具有特定波长的光，以测量玻璃基板的不均率的系统及方法。

背景技术

在显示装置中所使用的玻璃基板，例如在液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称为LCD)中所使用的玻璃基板，因缺陷(Defect)会导致其表面不均匀。

如果使用这种不均匀的玻璃基板制造显示装置，则因所述玻璃基板不均匀，所述显示装置无法呈现所需的事项。结果，所述显示装置被废弃处理，从而会降低合格率。

因此，在制造所述玻璃基板后、在执行其它工艺前，测量所述玻璃基板的不均率以事先检测具有缺陷的玻璃基板，变得尤为重要。

下面，介绍所述玻璃基板制造过程以及不均率的测量方法。

图1为一般的玻璃基板制造工艺的示意图。

如图1所示，将液态的玻璃熔液投入熔炉。此时，所投入的玻璃熔液朝所示箭头的方向流动，从而制造玻璃基板。

只是，当所述玻璃熔液流动的过程中，因所流动的方向会产生以线型构成的弯曲，其结果会制造出具有不均匀表面的玻璃基板。

因此，为了检测具有这种不均匀表面的玻璃基板，研发出多种测量所述玻璃基板的不均率的方法。

第一测量方法：使玻璃基板漂浮于水，然后使用具有特定波长的光照射所述玻璃基板，以测量所述玻璃基板的不均率。

第二测量方法：将纸张粘贴于玻璃基板的下面，然后使用具有特定波长的光照射所述玻璃基板，以测量所述玻璃基板的不均率。

第三测量方法：在所述玻璃基板的下面涂布特定物质，然后使用具有特定波长的光照射所述玻璃基板，以测量所述玻璃基板的不均率。

上述的三个测量方法的共同点在于，从所述玻璃基板反射的反射光中，为了去除由所述玻璃基板的下面反射的、对测量均匀度不必要的反射光，对所述玻璃基板的下面执行了特定处理。

但是，上述的测量方法还需要执行如在所述玻璃基板的下面涂布特定物质的过程和在测量结束后去除涂层的过程等额外的工艺，因此增加了测量所述不均率的时间和费用。

另外，即使特定处理所述玻璃基板的下面，也难以完全去除从所述玻璃基板的下面反射的反射光，从而很难正确地测量所述玻璃基板的不均率。

进一步地，因处理所述玻璃基板下面的过程，难以对测量所述玻璃基板不均率的工艺实现自动化。

发明内容

本发明的一目的在于，提供一种无需玻璃基板下面特定处理过程测量玻璃基板不均率的系统及方法。

本发明的另一目的在于，提供一种从上面和下面反射的反射光中仅利用从所述上面反射的反射光测量所述玻璃基板的不均率的系统及方法。

为了实现上述目的，本发明一实施例的玻璃基板的不均率测量系统包括：向所述玻璃基板照射第一光的光源部；以及屏幕。其中，以所述玻璃基板为基准排列所述光源部和所述屏幕，以使从所述光源部照射的第一光被所述玻璃基板的上面和下面反射、使被所述玻璃基板的上面反射的第一反射光入射至所述屏幕形成第一条带、以及使被所述玻璃基板的下面反射并且经由所述上面输出的第二反射光入射至所述屏幕形成第二条带，所述第一条带和所述第二条带分离而成。

所述不均率测量系统还包括：感应部，感应形成于所述屏幕的条带；以及不均率测量部，在被所述感应部感应的条带中，仅分离出所述第一条带，并且对所分离出的第一条带进行分析，以测量所述玻璃基板的不均率。

所述光源部包括：光源，输出第二光；第一透镜，对从所述光源照射的第二光进行扩散；以及第二透镜，将被所述第一透镜扩散的第二光输出成具有设定线宽的第一光。

所述光源、所述第一透镜和所述第二透镜被设置在一个壳体内，所述壳体能够朝全向(omnidirection)移动。其中，所述不均率测量系统，在固定所述玻璃基板和所述屏幕的状态下，移动所述壳体以检测所述条带被分离的最佳位置，并且将所述壳体固定在所检测的位置。

所述第二透镜和所述玻璃基板之间的距离与从所述玻璃基板至形成于所述屏幕的所述第一条带的部分的距离的比例为1∶1至1∶0.5；所述光源部，以所述玻璃基板为基准，呈45度和80度范围之间的角度。所述第二透镜和所述玻璃基板之间的距离为60mm至120mm，并且所述光源部以所述玻璃基板为基准呈45度和80度范围之间的角度的状态下，若从所述玻璃基板至形成于所述屏幕的所述第一条带的部分的距离在60mm以下，则所述条带相互分离而成。

所述第二透镜和所述玻璃基板之间的距离固定的状态下，随着所述玻璃基板和所述光源部之间的角度增加，所述玻璃基板和所述屏幕之间的距离缩小。