[发明专利]基板收纳装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种收纳掩模基板（mask blanks）等基板并输送该基板的基板收纳装置。

背景技术

公知有为了在半导体晶圆、FPD基板上形成微细的电路图案而使用了光掩模的光刻技术。在该光刻技术中，使曝光用光源的电磁波在形成有电路图案的光掩模透过来对形成有抗蚀剂膜的半导体晶圆等基板进行曝光，从而将微细的电路图案缩小转印到半导体晶圆上。

这种光掩模是如下这样制造的：在将遮光性膜形成在透光性基板上而形成的称作掩模基板的基板表面上，反复进行成膜、化学机械研磨（CMP）和清洗等多个工艺而形成电路图案。因此，当在掩模基板的表面存在微粒等异物时，异物成为所形成的图案产生缺陷的原因，因此，需要洁净地保管掩模基板，以便使异物等不会附着在掩模基板的表面上。

作为用于洁净地收纳保管并运输这种掩模基板的收纳容器，例如公知有下述专利文献1、2所述的收纳容器。专利文献1所述的收纳容器是为了防止来自外部空气的异物进入该收纳容器的内部而在容器的角部形成有设有过滤器的通气孔的收纳容器。专利文献2所述的收纳容器是为了防止光掩模等的表面的时效变化而将非活性气体导入到容器内并利用扩散板使该非活性气体扩散后排出的收纳容器。

专利文献1：日本特开2005–43796号公报

专利文献2：日本特开2001–53136号公报

但是，像以往的收纳容器那样仅形成有设有过滤器的通气孔，或仅将非活性气体导入到容器内而使该非活性气体扩散时，存在由于使用收纳容器的环境（例如洁净度、室内温度和干燥度等）的不同而对异物的防止对策不够充分这样的问题。

例如，即使是专利文献1所述的收纳容器，由于该收纳容器的使用环境的不同，有时也会发生自通气孔穿过过滤器而混入的微小的异物附着在掩模基板上的情况。另外，即使是专利文献2所述的收纳容器，由于在自收纳容器取出掩模基板时，必须打开收纳容器，所以根据届时的使用环境的不同，有时异物也会自外部混入而附着在掩模基板上。

另外，近年来，电路图案的微细化日益进展，所以掩模基板的输送、保管所要求的洁净度也比以往更严格。因此，为了能够始终防止异物附着在收纳容器内的掩模基板上，收纳容器的使用环境的差异也越来越不能忽视。

发明内容

因而，本发明是鉴于上述这样的问题而做成的，其目的在于提供一种能够根据使用环境有效地防止异物附着在被收纳的基板上的基板收纳装置。

为了解决上述问题，本发明的第一技术方案提供一种基板收纳装置，其用于收纳基板，其特征在于，该基板收纳装置包括：供气部，其用于将外部空气引入到上述基板收纳装置内；排气部，其与上述供气部相对配置；基板载置板，其设在上述供气部与上述排气部之间，具有将上述供气部与上述排气部之间连通的连通孔；供气过滤器，其设在上述供气部；鼓风机，其设在上述供气部或上述排气部，该基板收纳装置装卸自如地设有状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的任一个或装卸自如地设有状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的两个以上的组合，该状态传感器用于检测上述基板收纳装置内的状态。

为了解决上述问题，本发明的第二技术方案提供一种基板收纳装置，其用于收纳基板，其特征在于，该基板收纳装置包括：供气部，其设有向上述基板收纳装置内导入吹扫气体的导入部；排气部，其与上述供气部相对配置；基板载置板，其设在上述供气部与上述排气部之间，具有将上述供气部与上述排气部之间连通的连通孔；鼓风机，其设在上述供气部或上述排气部，该基板收纳装置装卸自如地设有状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的任一个或装卸自如地设有状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的两个以上的组合，该状态传感器用于检测上述基板收纳装置内的状态。

在这种结构的本发明中，通过驱动鼓风机，自供气部经由过滤器导入外部空气或自导入部导入吹扫气体，自与供气部相对的排气部排出该外部空气或该吹扫气体。由此，在基板收纳装置内，在配置于供气部与排气部之间的基板上形成从该供气部侧流向排气部侧的空气的气流。因此，即使例如由于使用环境的不同，微小的异物未能被过滤器全部捕捉到而自供气部进入基板收纳装置内，也能高效地自排气部排出该异物。由此，能够防止异物附着在基板收纳装置内的基板上。

而且，采用本发明，由于能够根据基板收纳装置的使用环境来安装状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的任一个或将状态传感器、微粒带电装置和调温装置组合来进行安装，所以能够根据使用环境有益地提高防止异物附着效果。