[发明专利]基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法有效

专利信息
申请号: 201180006810.2 申请日: 2011-01-19
公开(公告)号: CN102725680A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 平子贵浩 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/13;G03F9/00;G09F9/00;G09F9/30
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 基板 针对 曝光 方法 取向 处理
【权利要求书】:

1.一种基板,其特征在于,

形成有:某种尺寸的多个曝光对象区域;以及

与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域,并且

在形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的范围之间,形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。

2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,

在上述对准图案的轮廓中包括直线部分,上述直线部分沿着形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的曝光对象区域的范围的边界。

3.根据权利要求1或者权利要求2所述的基板,其特征在于,

上述对准图案形成为沿着形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的曝光对象区域的范围的边界的带状或者线状。

4.一种基板,其特征在于,

形成有:排列有某种尺寸的多个曝光对象区域的列;以及

与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列相邻而排列有与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域的列,并且

在排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列之间,形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。

5.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,

排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列是平行的,在上述对准图案的轮廓中,包括与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列和排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列平行的直线部分。

6.根据权利要求4或者权利要求5所述的基板,其特征在于,

排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列与排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列是平行的,上述对准图案形成为与排列有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的列和排列有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的列平行的带状或者线状。

7.一种基板,其特征在于,

是用于制造具有用于显示图像的显示区域的多个显示面板用的基板的拼版基板,

形成有:某种尺寸的多个上述显示区域;以及

与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个上述显示区域,并且

在形成有某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围之间,形成有在对上述显示区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。

8.根据权利要求7所述的基板,其特征在于,

在上述对准图案的轮廓中包括直线部分,上述直线部分沿着形成有上述某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围的边界。

9.根据权利要求7或者权利要求8所述的基板,其特征在于,

上述对准图案形成为沿着形成有上述某种尺寸的多个上述显示区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个上述显示区域的范围的边界的带状或者线状。

10.根据权利要求7所述的基板,其特征在于,

在上述显示区域中排列有多个像素,

在上述对准图案中包括与上述多个像素的排列方向平行的直线部分。

11.根据权利要求10所述的基板,其特征在于,

在上述显示区域中多个像素电极在相互正交的两个方向上矩阵状地排列,并且形成有与上述多个像素的排列方向中的一方平行的扫描线和与上述多个像素的排列方向中的另一方平行的数据线,

在上述对准图案的轮廓中,包括与上述多个像素的排列方向中的一方和上述扫描线平行的直线部分,或者包括与上述多个像素的排列方向中的另一方和上述数据线平行的直线部分。

12.根据权利要求11所述的基板,其特征在于,

上述对准图案由与上述扫描线或者上述数据线相同的材料形成。

13.根据权利要求10所述的基板,其特征在于,

在上述显示区域中,形成有具有相互正交的多个带状或者线状的部分的黑矩阵和彩色显示用的着色层,并且

在上述对准图案的轮廓中,包括与上述相互正交的带状或者线状的部分的方向中的任一方平行的直线部分。

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