[发明专利]基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法，详细地说，涉及液晶显示面板用的基板或者用于制造液晶显示面板的基板中的适于光取向处理的基板、针对该基板的曝光方法以及采用该曝光方法的光取向处理方法。

背景技术

一般的液晶显示面板具备两个显示面板用的基板，具备如下构成：这两个基板隔开规定的微小间隔相对配设，在它们之间填充有液晶。一般，在液晶显示面板用的基板形成有用于规定液晶的取向的取向膜。取向膜在显示面板用的基板的制造过程中形成，被实施取向处理。该取向处理广泛采用摩擦。摩擦是利用包括纤维材料等的摩擦滚子对取向膜的表面进行摩擦等，由此形成规定的微小凹凸(＝伤)的方法(＝摩擦的方法)。

最近开始使用光取向作为取代摩擦的取向处理。光取向是对取向膜从规定方向照射光能量(例如紫外线等)来调整取向膜的表面性状的方法。光取向的光能量照射方式例如能用如下构成：以覆盖基板表面的方式载置设有规定形状的图案的掩模，从其上方照射紫外线等(参照专利文献1)。除此以外，也会使用如下方式：用具备具有规定的图案的掩模和具有光源的投影光学系统的曝光装置，一边使投影光学系统产生的光通过掩模照射到基板，一边使掩模及投影光学系统与基板相对地移动。

在一边使投影光学系统及掩模与基板相对地移动一边照射光能量的方式中，在照射光能量的期间控制掩模的位置以使掩模在相对于与基板的相对地移动的方向成直角的方向上不发生位置偏移。掩模的位置的控制方法例如使用如下方法。在使投影光学系统及掩模与基板进行相对地移动的期间，继续测定形成于基板的规定要素(例如形成于显示区域的扫描线、数据线、黑矩阵等)与设于掩模的对准标记之间的距离(特别是与相对地移动的方向成直角的方向上的距离)。并且，控制掩模的位置以使该距离维持规定的值。

然而，现在广泛使用从一个母基板制造多个显示面板用的基板的方法。在这种制造方法中，在显示面板用的基板的制造工序中，在一个母基板上形成多个显示区域。然后，在形成有多个显示区域的母基板(即分割前的母基板)上形成取向膜，对形成的取向膜实施取向处理。

当对形成有多个显示区域的母基板应用一边使投影光学系统和掩模与母基板相对地移动一边照射光能量的方式的光取向时，有时会产生如下问题。

在设于掩模的对准标记位于某一个显示区域的内侧的期间，能计测形成于某一个显示区域的规定要素与设于掩模的对准标记之间的距离。因此，能进行掩模的位置的控制。

当在母基板上形成有多个显示区域时，有时掩模会跨于多个显示区域(特别是与相对地移动的方向成直角方向上排列的多个显示区域)。在这种情况下，通过一个掩模对多个显示区域同时并行地照射光能量。在此会成为如下状态：掩模的一部分和设于掩模的对准标记位于某一个显示区域的外侧，但是掩模的另一部分位于其它显示区域。在该状态下，无法控制或者难以控制掩模的位置，因此无法或者难以控制对另一个显示区域的光能量的照射位置。

并且，当光能量的照射位置偏离时，取向膜无法以规定形态使液晶取向。特别是，在上述另一个显示区域中，在设于掩模的对准标记位于某一个显示区域的内侧的期间被照射光能量的部分与位于任一显示区域的外侧的期间被照射光能量的部分之间，取向处理的状态有可能不同。其结果是制造出的显示面板(应用了上述另一个显示区域的显示面板)会发生显示不均、漏光等，显示质量可能会降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2005-024649号公报

发明内容

发明要解决的问题

鉴于上述实际情况，本发明提供在对形成有多个曝光对象区域的基板照射光能量时能高精度地对全部曝光对象区域照射光能量的基板、曝光方法以及光取向处理方法，或者提供在隔着掩模对形成有多个显示区域的基板进行光取向时掩模跨于多个显示区域的情况下，能高精度地对该多个显示区域照射光能量的基板、曝光方向以及光取向处理方法。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题，本发明的基板的要旨在于，形成有：某种尺寸的多个曝光对象区域；以及与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域，并且在形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的范围之间，形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。