[发明专利]光半导体、使用了它的光半导体电极和光电化学单元、以及能量系统有效

专利信息
申请号: 201180007084.6 申请日: 2011-03-03
公开(公告)号: CN102858456A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 野村幸生;铃木孝浩;宫田伸弘;羽藤一仁 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: B01J35/02 分类号: B01J35/02;B01J23/08;B01J27/24;C01G15/00;C25B1/04;C25B9/00;C25B11/06;H01M8/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 使用 电极 光电 化学 单元 以及 能量 系统
【说明书】:

技术领域

本发明涉及通过光的照射而使水分解的光半导体,和使用了它的光半导体电极及光电化学单元,以及使用了该光电化学单元的能量系统。

背景技术

历来,已知有通过对于作为光半导体发挥功能的半导体材料照射光,而使所述光半导体材料分解水,以提取氢和氧(例如,参照专利文献1)。在专利文献1中公开有一种技术,其是在电解液中配置n型半导体电极和相反极,对于n型半导体电极的表面照射光,从两电极的表面提取氢和氧。具体来说记述的是,作为n型半导体电极,使用TiO2电极等。

然而,TiO2(锐钛矿型)的带隙为380nm。因此,专利文献1所公示的半导体电极存在的问题是,只能利用大约1%的太阳光。

为了解决这一问题,专利文献2公开有一种使GaN(带隙:365nm,结晶构造:纤维锌矿型)中固溶有InN(结晶构造:纤维锌矿型)的单晶InzGa1-zN所制作的电极(0<z<1)。专利文献2所公开的气体发生装置,利用单晶InzGa1-zN,尝试使电极材料的带隙狭窄,即提高太阳光的利用效率。然而,在InzGa1-zN中,即使增加In的量,In0.2Ga0.8N(带隙:500nm)仍是界限。在InzGa1-zN中,若z>0.2,则发生相分离。因此,InzGa1-zN难以通过增加In的量而使带隙更小。

如上述,在InzGa1-zN中,实现高In组成(In被高比率含有的组成)困难。另一方面,含有Ga和In的氧化物半导体的情况是,可以实现高In组成。在专利文献3中,作为高In组成的氧化物半导体,公开有InGaO3(ZnO)m(m为1~20的整数)。

【先行技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】特开昭51-123779号公报

【专利文献2】特开2003-24764号公报

【专利文献3】国际公开第二008/072486号手册

发明内容

本发明其课题在于,提供一种光半导体,其通过在使GaN中固溶有InN的单晶中实现高In组成,能够实现带隙更小的半导体材料、即能够利用可视光。此外,本发明其课题还在于,提供利用了这样的光半导体的光半导体电极及光电化学单元。此外,本发明其课题还在于,提供使用了所述光电化学单元的能量系统。

本发明者们,着眼于载流子的迁移率高且具有优异的半导体特性的铟(In)、镓(Ga)及锌(Zn)的氧化物。具体来说,本发明者们,着眼于将专利文献3所公开的高In组成的氧化物半导体的氧置换成氮。即,本发明者们着眼于,通过使结晶相为纤维锌矿型的InN、GaN和ZnO固溶,而让结晶相的至少一部分具有稳定的纤维锌矿型,并且,能够得到带隙小的半导体材料的可能性。

其结果是,本发明者们达成了本发明的光半导体,其是含有In、Ga、Zn、O及N的光半导体,具有在通式:In2xGa2(1-x)O3(ZnO)y(x和y满足0.2<x<1以及0.5≤y。)中、O的一部分由N置换了的组成。

本发明的光半导体电极,具有导电基板和在所述导电基板上所设置的光半导体层,

在所述光半导体层中,

所述光半导体层的与所述导电基板的接合面邻近区域,由通式:In2xGa2(1-x)O3(ZnO)y(x和y满足0.2<x<1以及0.5≤y。)所代表的组成物A构成,

所述光半导体层的表面邻近区域,由具有在所述通式中O的一部分被N置换了的组成的组成物B构成,

所述组成物A的费米能级比所述组成物B的费米能级大。

本发明的第一光电化学单元具有如下:

光半导体电极,其含有导电基板和光半导体层,该光半导体层配置在所述导电基板上、且含有上述本发明的光半导体;

与所述导电基板电连接的相反极;

与所述光半导体层和所述相反极的表面相接触的且含有水的电解液;

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