[发明专利]基础化妆用化妆品及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180009007.4 申请日: 2011-01-21
公开(公告)号: CN102753138A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 中村和浩;磴秀康 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: A61K8/26 分类号: A61K8/26;A61K8/19;A61K8/29;A61Q1/02;A61Q1/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 基础 化妆 化妆品 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及基础化妆用化妆品及其制造方法。

背景技术

对于粉底等基础化妆用化妆品,不仅要求遮盖由于血液循环不良或色素沉淀而与年龄的增长同时感觉到的肤色暗沉(明亮度降低而黄色的彩度升高的状态),还要求上妆后的色调自然。

作为着眼于在不损害原来皮肤的质感的情况下改善肤色暗沉的技术,例如公开了通过在粉底中配合蓝色干涉云母从而在提高明亮度、泛蓝感的同时提高透明感的技术(参照日本特开平11-139929号公报)。

另外,为了具有高的紫外线屏蔽性能、对可见光的透明性高、获得良好的使用感,还已知有使用了金属氧化物薄片的复合粉体及使用了该复合粉体的化妆品等(参照日本特开平7-315859号公报及日本特开平9-71417号公报)。

但是,以往的基础化妆用化妆品有时涂抹于皮肤后呈现的色调的浓淡会在观察角度改变时或者在脸的凹凸部分发生剧烈变化,给观察者以不自然的印象。

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明鉴于上述以往的情况而完成,其技术问题在于实现以下的目的。

即,本发明的目的在于提供在皮肤上涂抹后因观察角度所导致的浓淡的急剧变化得到了抑制的基础化妆用化妆品及其制造方法。

用于解决技术问题的手段

本发明包含下述方案。

[1]一种基础化妆用化妆品的制造方法,其包含下述工序:通过至少将着色剂颜料、珠光颜料及油剂混合,从而调节成满足下述式(1)及下述式(2)所示的关系式且化妆品的色相角为40°~80°的范围,

当含有体质颜料时,使用上述体质颜料、上述珠光颜料及上述油剂制备的混合物的色相角为50°~80°的范围,当不含体质颜料时,使用上述珠光颜料及上述油剂制备的混合物的色相角为50°~80°的范围,

并且,上述珠光颜料的含量相对于化妆品的总质量为7质量%以上,

式(1):(C*0)-(C*45)≤2.0

式(2):|(∠h*0)-(∠h*45)|≤1.5

其中,(C*45)和(∠h*45)分别表示以涂抹上述基础化妆用化妆品所得到的涂抹层表面为受光面而相对于该受光面从-45°方向入射光时正反射方向(45°方向)的反射光的彩度(C*45)及色相角(∠h*45),(C*0)和(∠h*0)分别表示相对于该受光面从-45°方向入射光时漫反射方向(0°方向)的反射光的彩度(C*0)及色相角(∠h*0)。

[2]根据[1]所述的基础化妆用化妆品的制造方法,其中,上述珠光颜料为金色珠光颜料和红色珠光颜料的混合物。

[3]根据[1]或[2]所述的基础化妆用化妆品的制造方法,其中,上述体质颜料为选自云母、绢云母及滑石中的至少1种体质颜料,上述着色剂颜料为选自黄色氧化铁、红色氧化铁、黑色氧化铁及氧化钛中的至少1种着色剂颜料,上述珠光颜料为选自氧化钛被覆云母、氧化钛被覆玻璃薄片及氧化钛被覆滑石中的至少1种珠光颜料。

[4]根据[1]~[3]任一项所述的基础化妆用化妆品的制造方法,其中,对上述珠光颜料的配合量和上述着色剂颜料的配合量进行调节。

[5]一种基础化妆用化妆品,其满足下述式(1)及下述式(2)所示的关系式,且化妆品的色相角为40°~80°的范围,

式(1):(C*0)-(C*45)≤2.0

式(2):|(∠h*0)-(∠h*45)|≤1.5

其中,(C*45)和(∠h*45)分别表示以涂抹所述基础化妆用化妆品所得到的涂抹层表面为受光面而相对于该受光面从-45°方向入射光时正反射方向(45°方向)的反射光的彩度(C*45)及色相角(∠h*45),(C*0)和(∠h*0)分别表示相对于该受光面从-45°方向入射光时漫反射方向(0°方向)的反射光的彩度(C*0)及色相角(∠h*0)。

[6]根据[5]所述的基础化妆用化妆品,其满足下述式(1’)及下述式(2’)所示的关系式。

式(1’):(C*0)-(C*45)≤1.5

式(2’):|(∠h*0)-(∠h*45)|≤1.5

[7]根据[5]或[6]所述的基础化妆用化妆品,其满足下述式(1a)及下述式(2a)所示的关系式。

式(1a):(C*0)-(C*45)≤1.0

式(2a):|(∠h*0)-(∠h*45)|≤1.0

[8]根据[5]~[7]任一项所述的基础化妆用化妆品,其满足下述式(1b)所示的关系式。

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