[发明专利]水压转印膜用消光活化剂、水压转印方法及水压转印品

权利要求书

1. 水压转印膜用消光活化剂，其特征在于，包含如下的紫外线固化树脂组合物：在将水溶性膜上具有干燥的印刷图案的水压转印膜的上述印刷图案水压转印于物品表面时，在上述水压转印膜的上述印刷图案上涂布的紫外线固化树脂组合物；上述紫外线固化树脂组合物包含至少具有光聚合性单体的光聚合性成分和光聚合引发剂，用于在通过上述紫外线固化树脂组合物中的非溶剂活化成分重现上述印刷图案的附着性的同时，使上述紫外线固化树脂组合物浸透并混杂于上述印刷图案的整体中，所述水压转印膜用消光活化剂在上述紫外线固化树脂组合物中添加有消光剂，其中，上述消光剂含有树脂珠，并且上述活化剂中除上述消光剂外还添加有作用于作为上述消光剂的树脂珠而使上述树脂珠粒子群化的树脂珠凝集剂，相对于上述紫外线固化树脂组合物作为上述消光剂的树脂珠的掺混重量比(树脂珠的掺混重量比)为0.01~0.3，并且相对于上述树脂珠的上述树脂珠凝集剂的掺混重量比根据上述树脂珠的掺混重量比在0.05~1.5的范围进行调整。

2. 权利要求1的水压转印膜用消光活化剂，其特征在于，上述树脂珠为PE(聚乙烯)珠、氨基甲酸乙酯珠、硅酮珠中的任意1种或任意2种以上的组合，并且其粒径为5~20μm。

3. 权利要求1或2的水压转印膜用消光活化剂，其特征在于，上述树脂珠凝集剂为触变剂。

4. 权利要求3的水压转印膜用消光活化剂，其特征在于，上述触变剂为二氧化硅微粒。

5. 权利要求4的水压转印膜用消光活化剂，其特征在于，上述二氧化硅微粒为疏水性二氧化硅，并且其粒径为0.005~10μm。

6. 权利要求4或5的水压转印膜用消光活化剂，其特征在于，对上述疏水性二氧化硅实施硅烷类或硅氮烷类表面处理。

7. 水压转印方法，其特征在于，涂布包含如下紫外线固化树脂组合物和消光剂的活化剂：在将水溶性膜上具有干燥的印刷图案的水压转印膜的上述印刷图案水压转印于物品表面时，在上述水压转印膜的上述印刷图案上涂布的紫外线固化树脂组合物；在通过上述紫外线固化树脂组合物中的非溶剂活化成分恢复上述转印膜的印刷图案的附着性的同时，将上述活化剂整体浸透至上述印刷图案的全部厚度中，然后将上述转印膜的印刷图案水压转印于物品表面，上述紫外线固化树脂组合物包含至少具有光聚合性单体的光聚合性成分和光聚合引发剂，上述紫外线固化树脂组合物在水压转印后通过紫外线照射而固化，其中，上述消光剂含有树脂珠，并且上述活化剂中除上述消光剂外还添加有作用于作为上述消光剂的树脂珠而使上述树脂珠粒子群化的树脂珠凝集剂，相对于上述紫外线固化树脂组合物的作为上述消光剂的树脂珠的掺混重量比(树脂珠的掺混重量比)为0.01~0.3，并且相对于上述树脂珠的上述树脂珠凝集剂的掺混重量比根据上述树脂珠的掺混重量比在0.05~1.5的范围进行调整。

8. 权利要求7的水压转印方法，其特征在于，上述树脂珠为PE(聚乙烯)珠、氨基甲酸乙酯珠、硅酮珠中的任意1种或任意2种以上的组合，并且其粒径为5~20μm。

9. 权利要求7或8的水压转印方法，其特征在于，上述树脂珠凝集剂为触变剂。

10. 权利要求9的水压转印方法，其特征在于，上述触变剂为二氧化硅微粒。

11. 权利要求10的水压转印方法，其特征在于，上述二氧化硅微粒为疏水性二氧化硅，并且其粒径为0.005~10μm。

12. 水压转印品，其特征在于，通过权利要求7~11中任一项的方法形成，具有光泽度依据日本工业规格Z8741-1997“方法3-60度镜面光泽”测定不足55的装饰层。