[发明专利]炭化膜的制造方法及石墨膜的制造方法有效
申请号: | 201180012554.8 | 申请日: | 2011-03-09 |
公开(公告)号: | CN102811948A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 三代真琴;西川泰司;太田雄介;稻田卓 | 申请(专利权)人: | 钟渊化学工业株式会社 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 炭化 制造 方法 石墨 | ||
1.炭化膜的制造方法,它是包括准备卷于卷芯的高分子膜的准备工序、通过将所述高分子膜配置于加热炉的内部供于热处理而进行炭化来制备卷于所述卷芯的炭化膜的炭化工序的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述炭化工序通过使所述热处理的温度从初始温度经过热分解开始温度上升至热分解结束温度来进行,所述热处理的温度低于所述热分解开始温度时进行所述加热炉内的减压,所述热处理的温度达到所述热分解开始温度以后不进行所述加热炉内的减压。
2.炭化膜的制造方法,它是包括准备卷于卷芯的高分子膜的准备工序、通过将所述高分子膜配置于加热炉的内部供于热处理而进行炭化来制备卷于所述卷芯的炭化膜的炭化工序的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述炭化工序通过使所述热处理的温度从初始温度经过热分解开始温度上升至热分解结束温度来进行,所述热处理的温度低于所述热分解开始温度时进行所述加热炉内的减压,所述热处理的温度达到所述热分解开始温度以后以所述加热炉内的绝对压力达到21.3kPa~101.29kPa的范围内的条件进行减压。
3.如权利要求1或2所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,低于所述热分解开始温度的条件下的所述减压时的所述加热炉内的绝对压力在70kPa以下。
4.如权利要求3所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,低于所述热分解开始温度的条件下的所述减压时的所述加热炉内的绝对压力在10kPa以下。
5.如权利要求1~4中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,低于所述热分解开始温度的条件下的所述减压在所述热处理的温度在100~450℃的范围内时进行。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述热处理的温度达到所述热分解开始温度之前,所述热处理的升温速度在5℃/分钟以下。
7.如权利要求1~6中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述热处理的温度达到所述热分解开始温度以后,向所述加热炉内导入惰性气体。
8.如权利要求7所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述热处理的温度达到所述热分解开始温度以后,向所述加热炉内以1L/分钟以上的流量导入惰性气体。
9.如权利要求1~8中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,卷于所述卷芯的所述高分子膜以收纳于外筒的内部的状态下供于所述炭化工序。
10.如权利要求9所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述外筒具有透气性。
11.如权利要求10所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述外筒具有透气孔。
12.如权利要求9~11中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,将(所述外筒的内径-所述卷芯的直径)除以2而得到的值设为a(mm)、所述高分子膜的卷厚设为b(mm)时,a/b在1.8以上3.8以下。
13.如权利要求1~12中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,所述准备工序是对所述高分子膜施加40N/m以上的张力的同时将所述高分子膜卷于所述卷芯的工序。
14.如权利要求13所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,将所述高分子膜卷于所述卷芯时的卷绕速度在1m/分钟以上。
15.如权利要求13或14所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,在距离卷绕开始的膜端部3m的位置施加于所述高分子膜的张力Ps与在距离卷绕结束的膜端部3m的位置施加于所述高分子膜的张力Ps的张力比Pe/Ps在1.1以上。
16.如权利要求13~15中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,将所述高分子膜卷于所述卷芯的工序在用轧辊以70N/m以下的压力挤压卷于所述卷芯的所述高分子膜的同时进行。
17.如权利要求13~15中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,将所述高分子膜卷于所述卷芯的工序在不通过轧辊对所述高分子膜施加压力的条件下进行。
18.如权利要求13~17中的任一项所述的炭化膜的制造方法,其特征在于,将所述高分子膜卷于卷芯的工序在对所述高分子膜除电的同时进行。
19.石墨膜的制造方法,其特征在于,包括通过权利要求1~18中的任一项所述的制造方法制造炭化膜的工序、通过将所述炭化膜石墨化来制造石墨膜的工序。
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