[发明专利]用于涂布基底的方法和装置有效
申请号: | 201180013186.9 | 申请日: | 2011-03-03 |
公开(公告)号: | CN102781591A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | S.E.伊耶;J.R.利佐特;W.J.伯盖斯;W.S.斯特拉泽;J.W.小默瑟;T.W.赫尔顿;G.D.布恩 | 申请(专利权)人: | 伊士曼化工公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B29C47/02;B29C47/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李连涛;杨思捷 |
地址: | 美国田*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 基底 方法 装置 | ||
1.用于挤出涂布细长基底的模头,所述模头包含:
限定出至少一部分涂布腔的模块,所述模块进一步限定出用于向所述涂布腔供应涂料的涂料供应通道;
导向插头,其可拆卸地接合到所述模块并限定用于接收所述基底和使所述基底朝向所述涂布腔的基底入口;和
模板,其可拆卸地接合到所述模块并限定用于从所述模头中排出所述基底的基底出口,所述基底出口具有在形状上与所述基底入口的侧向横截面基本对应的非圆形侧向横截面。
2.权利要求1的模头,所述基底入口和所述基底出口的所述横截面各自包含至少一个曲面,其中所述曲面包含至少一个凸起段和至少一个凹入段。
3.权利要求1的模头,所述模板包含正面和背面,所述背面与所述模块相邻,所述基底出口从所述背面向所述正面渐缩。
4.权利要求3的模头,所述基底出口具有至少一个正常下表面、至少两个正常侧面和至少一个正常上表面,所述正常上表面具有从所述背面到所述正面大约1°至大约89°的平均倾斜角,且其中所述基底出口的所述下表面、侧面或上表面中的至少两者从所述背面向所述正面会聚。
5.权利要求1的模头,所述基底出口的所述横截面的面积大于所述基底入口的横截面的面积。
6.权利要求1的模头,所述基底具有4-面或6-面侧向横截面,所述模头可用于基本完全涂布所述基底的三面,并任选可用于涂布所述基底的第四面的一部分,或任选可用于涂布所述6面基底的至少一个其它面的一部分。
7.权利要求1的模头,所述导向插头部分延伸到所述模块中,所述涂布腔进一步由一部分所述导向插头限定,所述涂布腔进一步由一部分所述模板限定。
8.权利要求1的模头,所述模块包含接合到模体的背板,所述导向插头可拆卸地接合到所述背板,所述模板可拆卸地接合到所述模体。
9.权利要求1的模头,所述模块进一步包含与所述涂料供应通道流体流通的涂料入口。
10.权利要求1的模头,所述模块、所述导向插头和所述模板至少部分由惰性材料形成。
11.权利要求1的模头,所述细长基底是基本刚性的,所述涂布腔与所述基底入口和所述基底出口对齐以使所述基本刚性基底通过其中。
12.权利要求1的模头,所述模板限定出至少一个与所述基底出口的两面的交点相邻的洇出通道。
13.用于将涂料施加到细长的基本刚性基底的系统,所述系统包含:
用于使所述基底与所述涂料接触的模头,其中所述模头限定出涂布腔、涂料供应通道、基底入口和基底出口;和
用于使所述基底与所述基底入口对齐并将所述基底经所述基底入口、涂布腔和基底出口至少部分地推送通过所述模头的基底进给器,
其中所述模头包含模块、可拆卸地接合到所述模块的导向插头和可拆卸地接合到所述模块的模板,
其中所述导向插头限定所述基底入口,且所述模板限定所述基底出口。
14.权利要求13的系统,进一步包含在所述进给器上游的至少一个烘箱或干燥器,或在所述模头下游的至少一个压力箱,或在所述模头下游的至少一个喷砂系统。
15.权利要求13的系统,进一步包含与所述模头流体流通并可用于向所述模头供应所述涂料的涂料源。
16.涂布基底的方法,所述方法包括:
(a) 将涂料引入模头的涂布腔;
(b) 将第一细长基底经基底入口推送进入所述模头;
(c) 使所述第一细长基底输送通过所述涂布腔以使所述第一细长基底与所述涂料接触;和
(d) 经基底出口从所述模头中排出所述第一细长基底以形成至少部分涂布的第一基底,
其中所述模头包含模块、导向插头和模板,
其中所述导向插头和所述模板可拆卸地接合到所述模块,
其中所述导向插头限定所述基底入口,
其中所述模板限定所述基底出口。
17.权利要求16的方法,其中所述第一细长基底的侧向横截面在形状上与所述基底入口和所述基底出口的侧向横截面基本对应。
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