[发明专利]机械层及其成形方法

说明书

技术领域

本发明涉及机电系统装置，且更特定来说涉及此些装置及系统中的机械层的成形。

背景技术

例如微机电系统(MEMS)的机电系统包括微机械元件、激活器及电子装置。可使用沉积、蚀刻及/或蚀刻掉衬底及/或所沉积材料层的若干部分或添加若干层以形成电及机电装置的其它微机械加工工艺来形成微机械元件。一种类型的机电系统装置称作干涉式调制器。如本文中所使用，术语干涉式调制器或干涉式光调制器是指使用光学干涉的原理来选择性地吸收及/或反射光的装置。在某些实施例中，干涉式调制器可包括一对导电板，其中的一者或两者可为全部或部分透明的及/或反射的且能够在施加适当电信号时相对运动。在特定实施例中，一个板可包括沉积于衬底上的静止层而另一板可包括通过气隙与静止层分离的柔性膜。如本文中更详细地描述，一个板相对于另一板的位置可改变入射于干涉式调制器上的光的光学干涉。此些装置具有广泛的应用，且在此项技术中，利用及/或修改这些类型的装置的特性使得其特征可用于改进现有产品及形成尚未开发的新产品将为有益的。

发明内容

在一个实施例中，一种机电系统装置包含衬底、支撑结构以及具有激活位置及松弛位置的机械层。所述支撑结构在所述衬底上且支撑所述机械层且经配置以使所述机械层与所述衬底间隔开以界定可收缩间隙。所述间隙在所述机械层处于所述激活位置时处于收缩状况且在所述机械层处于所述松弛位置时处于非收缩状况。所述机械层包含邻近于所述支撑结构的纽结。所述纽结包含上升部分及下降部分，其中在所述机械层处于所述松弛位置时，所述上升部分远离所述间隙延伸且所述下降部分朝向所述间隙延伸。

在另一实施例中，一种机电系统装置包含衬底装置、具有松弛位置及激活位置的可变形装置以及支撑装置。所述支撑装置支撑所述可变形装置且通过可收缩间隙使所述可变形装置与所述衬底间隔开。所述可收缩间隙在所述可变形装置处于所述激活位置时处于收缩状况且在所述可变形装置处于所述松弛位置时处于非收缩状况。所述可变形装置包含用于引导所述可变形装置的曲率的成形装置。

在另一实施例中，提供一种用于使机电系统装置中的机械层成形的方法。所述方法包含提供衬底及在所述衬底的至少一部分上方沉积支撑层。所述方法进一步包含由至少所述支撑层形成支撑柱及提供具有邻近于所述支撑柱的纽结的机械层，其中所述纽结包含上升边缘及下降边缘。此外，所述方法包含用所述支撑柱支撑所述机械层以在所述衬底上方界定可收缩间隙。

出于概述本发明及所实现的优于现有技术的优点的目的，已在上文中描述本发明的某些目标及优点。当然，应理解，根据本发明的任一特定实施例可能未必实现所有此些目标或优点。因此，举例来说，所属领域的技术人员将认识到，可以实现或优化本文中所教示或暗示的一个优点或优点群组而未必实现本文中所教示或暗示的其它目标或优点的方式来体现或实施本发明。

所有这些实施例打算在本文中所揭示的本发明的范围内。所属领域的技术人员根据下文参考附图对优选实施例的详细描述将易于明了这些及其它实施例，本发明并不限于所揭示的任一(任何)特定优选实施例。

附图说明

图1是描绘干涉式调制器显示器的一个实施例的一部分的等角视图，其中第一干涉式调制器的可移动反射层处于松弛位置，而第二干涉式调制器的可移动反射层处于激活位置。

图2是图解说明并入有3×3干涉式调制器显示器的电子装置的一个实施例的系统框图。

图3是针对图1的干涉式调制器的一个示范性实施例的可移动反射镜位置对所施加电压的图。

图4是可用于驱动干涉式调制器显示器的一组行及列电压的图解说明。

图5A及5B图解说明可用于将显示数据帧写入到图2的3×3干涉式调制器显示器的行及列信号的一个示范性时序图。

图6A及6B是图解说明包括多个干涉式调制器的视觉显示装置的实施例的系统框图。

图7A是图1的装置的横截面。

图7B是干涉式调制器的替代实施例的横截面。

图7C是干涉式调制器的另一替代实施例的横截面。

图7D是干涉式调制器的又一替代实施例的横截面。

图7E是干涉式调制器的额外替代实施例的横截面。

图7F是干涉式调制器的另一额外替代实施例的横截面。

图8是图解说明用于干涉式调制器的制造工艺的一个实施例的流程图。

图9A到9K是图解说明根据一个实施例的用于干涉式调制器的制造工艺的示意性横截面。