[发明专利]曝光装置的制造方法及组件制造方法有效
申请号: | 201180015664.X | 申请日: | 2011-02-10 |
公开(公告)号: | CN102834775A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 一之濑刚 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 制造 方法 组件 | ||
1.一种曝光装置的制造方法,以制造该曝光装置,该曝光装置具备包含机体、与对接于该机体的第1模块的多个模块,用以使感应物体曝光,该方法包含:
为了使与运送的该机体实质上为相同构件的机体工具与该第1模块对接时两者的位置关系成为所欲关系,而调整设在该机体工具与该第1模块之间的第1定位装置的动作;
对通过该调整后该第1定位装置与该机体工具对接时的位置关系成为该所欲关系的该第1模块加以运送的动作;以及
在运送目的地,通过与该第1定位装置具有相同构成的第2定位装置将该机体与该第1模块彼此加以对接的动作,其中该第2定位装置是与该调整后的该第1定位装置为相同状态且设在该机体与该第1模块之间。
2.如权利要求1的曝光装置的制造方法,其中,作为该机体工具,使用运送的该机体。
3.如权利要求1或2的曝光装置的制造方法,其中,在该第1定位装置的调整中,调整该第1定位装置以使该机体工具的第1基准面与该第1模块的第2基准面间的位置关系成为所欲关系。
4.如权利要求3的曝光装置的制造方法,其中,该第1定位装置的调整包括测量该第1基准面与该第2基准面间的倾斜,以及调整该第1定位装置以使该第1模块的倾斜受到调整。
5.如权利要求3或4的曝光装置的制造方法,其中,该第1定位装置的调整包括测量该第1基准面与该第2基准面间的旋转偏差,以及调整该第1定位装置以使该第1模块的旋转受到调整。
6.如权利要求3至5中任一项的曝光装置的制造方法,其中,该第1定位装置的调整包括测量该第1基准面与该第2基准面间的位置偏差,以及调整该第1定位装置以使该第1模块的位置受到调整。
7.如权利要求1至6中任一项的曝光装置的制造方法,其中,该第1定位装置的调整包含将设在该机体工具与该第1模块中一方的形成有凹部的第1构件、与设在该机体工具与该第1模块中另一方的形成有凸部的第2构件,藉由该凹部与该凸部间的卡合彼此加以卡合,以及相对于该机体工具调整该第1构件与该第2构件中设在该机体工具之一的位置的动作,该第1构件与该第2构件构成该第1定位装置。
8.如权利要求7的曝光装置的制造方法,其中,该对接包含将设在该机体与该第1模块中一方的该第1构件、与设在该机体与该第1模块中另一方的该第2构件中的一个构件与该第一构件和该第二构件的另一方构件彼此卡合的动作,该第1构件与该第2构件构成该第2定位装置,该一个构件是设于该机体而与该调整后的该第1定位装置处于相同状态的构件。
9.如权利要求7或8的曝光装置的制造方法,其中,该凹部为V形槽、该凸部具有与该V形槽的一对斜面接触的形状。
10.如权利要求9的曝光装置的制造方法,其中,该凸部与该V形槽的一对斜面线接触。
11.如权利要求1至10中任一项的曝光装置的制造方法,其中,在该第1定位装置的调整中,调整与该机体工具的三处对应设置的三个该第1定位装置。
12.如权利要求第11项的曝光装置的制造方法,其中,在该对接中,通过与该机体的三处对应设置的三个该第2定位装置将该该机体与该第1模块彼此加以对接。
13.如权利要求1至12中任一项的曝光装置的制造方法,其中,该第1模块是包含保持该感应物体的载台的载台模块。
14.一种组件制造方法,包含:
使用以权利要求1至13中任一项的曝光装置的制造方法所制造的曝光装置使感应物体曝光的动作;以及
使曝光后的该感应物体显影的动作。
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