[发明专利]曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，使沿规定的圆筒面设置的图案在所述圆筒面的圆周方向旋转并将所述图案转印至基板，其特征在于，具备：

第一投影光学系统，该第一投影光学系统将所述图案中的配置于所述圆筒面的第一区域的第一部分图案的像投影于第一投影区域；

第二投影光学系统，该第二投影光学系统将所述图案中的配置于与所述第一区域不同的第二区域的第二部分图案的像投影于与所述第一投影区域不同的第二投影区域；以及

引导装置，该引导装置与所述图案的在所述圆周方向的旋转同步地将所述基板向所述第一投影区域以及所述第二投影区域引导。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一部分图案与所述第二部分图案沿所述圆筒面的中心轴线相互隔开规定间隔而设置，并且在所述圆筒面的圆周方向相互错开规定量而设置，

在所述图案的旋转行进方向上沿所述圆筒面的圆周方向从所述第一区域到所述第二区域的间距N，沿利用所述引导装置使所述基板移动的移动路径的所述第一投影区域与所述第二投影区域之间的间距L，所述第一投影光学系统以及所述第二投影光学系统的投影倍率β，以及所述规定量S满足S=N－L/β以及L≤β×N的关系。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一部分图案与所述第二部分图案沿所述圆筒面的中心轴线相互隔开规定间隔而设置，并且在所述圆筒面的圆周方向相互错开规定量而设置，

所述圆筒面的直径D，沿利用所述引导装置使所述基板移动的移动路径的所述第一投影区域与所述第二投影区域之间的间距L，所述第一投影光学系统以及所述第二投影光学系统的投影倍率β，以及所述规定量S满足S=π×D/2－L/β以及L≤β×π×D/2的关系。

4.根据权利要求2或者权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述规定间隔设定成：使得由所述第一投影光学系统所投影的所述第一投影区域的端部位置与由所述第二投影光学系统所投影的所述第二投影区域的端部位置在所述基板的移动路径上至少一部分重叠。

5.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述引导装置具有第一支承部以及第二支承部，该第一支承部以及第二支承部分别支承位于所述第一投影区域以及第二投影区域的所述基板。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一支承部具有第一弯曲部，所述第二支承部具有第二弯曲部，所述第一弯曲部以及第二弯曲部沿通过所述第一投影光学系统以及所述第二投影光学系统与所述圆筒面的弯曲方向光学对应的方向弯曲，使所述基板沿所述第一弯曲部以及第二弯曲部弯曲而支承该基板。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一弯曲部以及所述第二弯曲部分别向所述第一投影光学系统以及所述第二投影光学系统呈凸状地弯曲。

8.根据权利要求6或者权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一弯曲部以及所述第二弯曲部以与所述圆筒面的曲率相同的曲率弯曲。

9.根据权利要求6至权利要求8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一支承部以及所述第二支承部分别具有：引导辊，该引导辊沿表面引导所述基板；以及辊驱动部，该辊驱动部使所述引导辊沿所述表面的圆周方向旋转，

所述第一弯曲部以及所述第二弯曲部设置于分别对应的所述引导辊的表面部。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，

所述辊驱动部使所述引导辊与所述图案的旋转同步地旋转。

11.根据权利要求1至权利要求10中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一投影光学系统以及所述第二投影光学系统分别包括：

第一光学系统，该第一光学系统配置于所述圆筒面的内侧，并使从所述图案发出的光向所述圆筒面的外侧射出；以及

第二光学系统，该第二光学系统将经由所述第一光学系统的所述光向所述第一投影区域或者所述第二投影区域照射，从而投影所述图案的像。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一光学系统将所述图案的中间像成像在所述圆筒面的附近。