[发明专利]硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法有效
| 申请号： | 201180019525.4 | 申请日： | 2011-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN102858494A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 土居阳彦;内野阳介;西本和彦 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;C09K3/14;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 龚敏 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硬盘 硅酸盐 玻璃 制造 方法 | ||
1.一种硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其特征在于，
包括使用研磨液组合物来研磨被研磨铝硅酸盐玻璃基板的工序，
所述研磨液组合物含有二氧化硅粒子、具有磺酸基的聚合物、和水，并且所述具有磺酸基的聚合物的相对于铝硅酸盐玻璃的吸附常数为1.5～5.0L/g。
2.根据权利要求1所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述具有磺酸基的聚合物是具有芳香族环的聚合物。
3.根据权利要求1或2所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述具有磺酸基的聚合物的重均分子量为3000～100000。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述被研磨铝硅酸盐玻璃基板中的Al的含量为3～25重量％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述被研磨铝硅酸盐玻璃基板中的Na的含量为3～25重量％。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物还含有三元羧酸。
7.根据权利要求6所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物中的所述三元羧酸的含量为0.05～10重量％。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物的pH为0.8～5。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述二氧化硅粒子为胶态二氧化硅粒子。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述二氧化硅粒子的平均粒径为5～200nm。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物中的所述具有磺酸基的聚合物的含量为0.0001～5重量％。
12.根据权利要求1～11中任一项所述的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物中的所述二氧化硅粒子的含量为1～20重量％。
13.一种减少硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的表面起伏的方法，其特征在于，
包括使用研磨液组合物来研磨被研磨铝硅酸盐玻璃基板的工序，
所述研磨液组合物含有二氧化硅粒子、具有磺酸基的聚合物、和水，并且所述具有磺酸基的聚合物的相对于铝硅酸盐玻璃的吸附常数为1.5～5.0L/g。
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