[发明专利]硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法、以及减少硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的表面起伏的方法。

背景技术

近年来，磁盘驱动器的小型化·大容量化不断推进，因而要求高记录密度化。为了将其高记录密度化，要缩小单位记录面积，提高变弱的磁信号的检测灵敏度，因此正在推进对用于进一步降低磁头的悬浮高度的技术的开发。此时，如果基板表面的粗糙度大，则在读写之时就会产生磁头与盘表面碰撞的问题。所以，为了实现进一步的高记录密度化，对于玻璃基板要求更加优异的表面品质，因此作为最终(精加工)研磨液的研磨材料开始使用含有二氧化硅的粒子(以下也称作硅石粒子)。最近，作为减小玻璃基板的表面粗糙度并且可以获得高研磨速度的研磨液组合物，提出了含有小粒径二氧化硅粒子和重均分子量为给定范围的丙烯酸/磺酸共聚物的酸性的玻璃基板用研磨液组合物(专利文献1)。

另一方面，作为研磨液组合物，还提出过如下的研磨液组合物，即，含有胶态二氧化硅等研磨材料、和与主链结合有羧酸基、羧酸基的盐、磺酸基及磺酸基的盐的至少一种的水溶性聚合物，可以抑制塌边(roll off)(专利文献2)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-191696号公报

专利文献2：日本特开2009-50920号公报

发明内容

发明所要解决的课题

为了降低磁头的悬浮高度，除了减小盘表面的粗糙度以外，减少起伏也十分重要。

但是，在使用专利文献1及专利文献2中公开的研磨液组合物研磨含有铝硅酸盐的被研磨基板的情况下，无法有效地减少基板表面起伏。

所以，本发明提供可以针对含有铝硅酸盐的被研磨基板实现研磨后的基板表面的起伏的减少的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法、以及减少硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的表面起伏的方法。

用于解决课题的手段

本发明的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法包括使用如下的研磨液组合物来研磨被研磨铝硅酸盐玻璃基板的工序，所述研磨液组合物含有二氧化硅粒子、具有磺酸基的聚合物、和水，并且所述具有磺酸基的聚合物的相对于铝硅酸盐玻璃的吸附常数为1.5～5.0L/g。

本发明的减少硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的表面起伏的方法包括使用如下的研磨液组合物来研磨被研磨铝硅酸盐玻璃基板的工序，所述研磨液组合物含有二氧化硅粒子、具有磺酸基的聚合物、和水，并且所述具有磺酸基的聚合物的相对于铝硅酸盐玻璃的吸附常数为1.5～5.0L/g。

发明的效果

根据本发明，可以提供能够实现研磨后的基板表面的起伏的减少的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法、以及减少硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的表面起伏的方法。

具体实施方式

本发明中所说的“起伏”是指波长比粗糙度更大的基板表面的凹凸，一般来说，包括长波长起伏(波长0.5～2mm)、短波长起伏(波长50～160μm)、以及中波长起伏(波长160～500μm)，而在本说明书中只要没有特别提及，就是指中波长起伏。通过减少研磨后的基板表面的起伏，可以降低磁头的悬浮量，从而可以实现磁盘基板的记录密度的提高。

作为本发明的硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法(以下也称作“本发明的制造方法”。)中使用的铝硅酸盐玻璃基板用研磨液组合物(以下也称作“研磨液组合物”。)的研磨对象的被研磨铝硅酸盐玻璃基板(以下也称作“铝硅酸盐玻璃基板”、“玻璃基板”、“被研磨基板”或者“基板”。)，作为其构成元素除O以外含有最多的是Si，其次多的是Al及Na。通常来说，Si的含量为20～40重量％，Al的含量为3～25重量％，Na的含量为3～25重量％。在将铝硅酸盐玻璃基板作为硬盘用基板使用的情况下，从提高具有磺酸基的聚合物向铝硅酸盐玻璃基板的吸附性以及基板的耐碱性的观点考虑，Al的含量优选为3重量％以上，更优选为5重量％以上，进一步优选为7重量％以上。另外，从维持基板的透明性的观点考虑，Al的含量优选为25重量％以下，更优选为20重量％以下，进一步优选为15重量％以下。由此，Al的含量优选为3～25重量％，更优选为5～20重量％，进一步优选为7～15重量％。另外，从兼顾基板的耐碱性的提高和基板的透明性的维持的观点考虑，Na的含量优选为3～25重量％，更优选为3～20重量％，进一步优选为5～15重量％。而且，铝硅酸盐玻璃基板中所含的Si、Al及Na的含量的测定条件的详细情况如实施例中所示。