[发明专利]成膜方法及成膜装置

说明书

技术领域

本发明尤其涉及适用于形成疏油膜的成膜方法及成膜装置。

背景技术

公知通过以下示出的工序而使疏油膜堆积在基板的表面上的技术(专利文献1)。该方法首先使基板座的基板保持面的整个面保持作为处理对象的多个基板之后，使该基板座在真空腔室内转动。接着以维持该转动的状态，对这多个基板全部连续照射离子(离子全面照射)之后，向着通过离子照射而形成了表面凹凸的全部基板，使疏油膜的形成原料构成的成膜材料蒸发并使其附着。该技术是通过以上工序使疏油膜堆积在多个基板全部的凹凸形成面上的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2010-90454号公报

发明内容

-发明所要解决的技术课题-

根据上述的现有方法，在基板上能够形成疏油膜，该疏油膜具有在实用中耐用的耐摩耗性(专利文献1的段落0029)，但近年来期望疏油膜的耐摩耗性进一步提高。

根据本发明的一个方面，提供能够高效地形成疏油膜的成膜方法以及成膜装置，该疏油膜在实用中耐用是毋庸置疑的，还能够进一步提高耐磨耗性能。

-解决技术问题的技术方案-

本发明提供如下的成膜方法，其特征在于，通过向基体保持单元的基体保持面的一部分区域(例如A2)照射离子，从而仅对由所述基体保持面所保持且转动中的多个基体中的、移动到所述区域(A2)的特定基体的组照射所述离子(离子局部照射)，之后，在中止了所述离子照射的状态下，通过向所述基体保持面的全部区域(例如A1)提供疏油膜的成膜材料，从而对基体保持面所保持且转动中的多个基体的全部提供所述成膜材料，使疏油膜堆积在基体的表面上。

在本发明中，在将成膜材料的供给时间设为T1、将离子照射时间设为T2时，以T2≤((1/2)×T1)的方式对每一片基体照射离子。例如通过至少对基体保持单元的转动速度以及离子照射区域(例如A2)的任一个进行适当地调整，从而能够实现这样的离子的局部照射。

在本发明中，在将成膜材料的供给区域设为A1、将离子的照射区域设为A2时，以A2≤((1/2)×A1)的方式对基体保持单元的基体保持面照射离子。这种情况下，更加优选的是以照射区域成为沿着上述基体的移动方向被纵长状的闭合曲线所包围的区域的方式来照射离子。

在本发明中可使用加速电压为50～1500V的离子，以及/或能够使用照射离子电流为50～1500mA的离子。在本发明中能够使用至少含有氧的离子。

根据本发明提供如下成膜装置，用于形成疏油膜，该成膜装置在真空容器内以可转动的方式配置基体保持单元，该基体保持单元具有用于保持多个基体的基体保持面，该成膜装置的特征在于，具有：离子照射单元，以能够向着所述基体保持面的一部分区域(例如A2)照射离子的结构、配置以及/或方向，被设置在所述真空容器内；以及成膜单元，以能够向着所述基体保持面的全部区域提供成膜材料的配置以及方向，被设置在所述真空容器内。在所述成膜单元的动作开始前，所述成膜装置使所述离子照射单元的动作停止。

在本发明中，离子照射单元以能够对所述基体保持面的全部区域的一半以下区域照射离子的配置，被配置在所述真空容器内。

在本发明中，还具有使基体保持单元转动的转动单元，离子照射单元能够以从离子照射单元照射离子的轴线相对于基体保持单元的转动轴线具有6°以上70°以下的角度的方式配置在所述真空容器内部。

在本发明中，离子照射单元能够配置在真空容器的侧面侧，另外离子照射单元能够以成膜时从基体保持面所保持的基体到离子照射单元的距离为平均自由行程以下的方式来进行配置

在本发明中，离子照射单元至少隔着可调整安装角度的支持单元而安装在真空容器的侧面。

在本发明中，基体保持单元成平板状或圆顶状、或角锥状，并形成从一个面贯通到另一个面的贯通孔，在成膜时，由基体保持面所保持的基体能够以塞住贯通孔的方式保持在基板保持单元。

在本发明中，也可进一步具有用于加热基体以及基体保持单元的加热单元。

-发明的效果-

根据本发明，在使疏油膜堆积在由基体保持单元的基体保持面所保持且转动中的多个基体表面上之前(成膜开始前)，向基体保持单元的基体保持面的一部分区域照射离子，从而仅对由基体保持面所保持且转动中的多个基体中的、移动到所述区域的特定基体的组照射离子(离子局部照射)。