[发明专利]用于按照EB/PVD方法为基底涂层的设备

权利要求书

1.一种用于按照EB/PVD方法用涂层材料为基底涂层的设备，其包括：由至少两个在水平面内相互错位布置的坩埚构成的坩埚装置，所述坩埚装置被布置在能水平移位的支架(1)内，其中在所述支架(1)内在每个坩埚之下布置至少一个用于容纳由涂层材料构成的材料条的管道(13)；和至少一个提升装置(21)，借助所述提升装置使布置在所述管道(13)内的材料条能通过坩埚底部而被引入到所述坩埚中，以便在那里通过利用来自电子枪的电子束进行照射而蒸发，其特征在于，每个坩埚配备有一布置在所述支架(1)中的提升装置(21)，并且所述支架(1)能线性地在坩埚位移的方向上移位。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述坩埚装置是两个坩埚装置中的一个，其中，两个坩埚装置的坩埚具有相同的位移量。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，每个坩埚配备有一包括多个管道(13)的旋转装置(12)，其中每个旋转装置(12)能围绕垂直轴(14)旋转地支承在所述支架(1)中。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其特征在于，所述设备被布置在真空腔(4)中，并且用于所述提升装置(21)的传动轴(25)真空密封地被引导穿过所述真空腔(4)的壁，从而用于驱动各个提升装置(21)的马达(24)位于所述真空腔(4)的外部。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，在所述马达与所述提升装置之间传递旋矩的每个连接部具有能伸缩状拉出的区段。

6.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述管道(13)由布置成圆的保持杆(17)构成，所述保持杆在上转盘与下转盘(15，16)之间延伸。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，被设计为主轴驱动装置的提升装置(21)分别具有侧向突出的托架，所述托架插入到由所述保持杆(17)形成的管道(13)中。

8.根据上述权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，在所述支架(1)的上侧上为每个坩埚布置引导管套(10，11)，材料条能穿过所述引导管套通过坩埚底部被引导到坩埚中，并且每个引导管套(10，11)均配设有用于将材料条保持在所述引导管套(10，11)中的夹紧装置。