[发明专利]用于按照EB/PVD方法为基底涂层的设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于按照EB/PVD方法—电子束物理气相沉积法—为基底涂覆涂层材料的设备，其包括：由至少两个在水平面上相互错位布置的坩埚构成的坩埚装置，所述坩埚装置被布置在可水平移位的支架内，其中在所述支架内在每个坩埚之下布置至少一个用于容纳由涂层材料构成的材料条的管道；和至少一个提升装置，借助所述提升装置使布置在管道内的材料条能通过坩埚底部而被引入到所述坩埚中，以便在那里通过利用来自电子枪的电子束进行照射而蒸发。

背景技术

这种设备是已知的。在旋转支架的头部上对称地布置两对坩埚，从而通过旋转支架180°旋转使得其中一对坩埚交叉地与另一对坩埚调换位置。在每个坩埚之下设有包括多个管道的旋转装置，其中存储材料条。每个材料条均由多个短的实心柱形的部段构成。如果在坩埚内的材料条被提升直至最后一个部段，那么所述部段被夹紧在坩埚中，从而旋转装置在坩埚之下到那个时候能够无阻障碍地旋转，直到旋转装置上的一个被填满的管道再次位于坩埚下方。提升装置将新的材料条推靠到保留在坩埚中的部段上，然后取消对其的夹紧。因为之后推送的材料必须与保留的部段的材料相应，因此旋转装置装有由一材料构成的材料条。

所述提升装置在已知的设备中由固定在真空腔的壁上的主轴驱动装置构成，所述设备被布置在该真空腔内。

由总共四个坩埚与在支架上所属的旋转装置构成的布置实现了这样一种布置，即所述布置特别是在大量装载材料时仅能在较大的安装空间内可旋转地支承在垂直轴上。在外部围绕支架布置的提升装置再次扩大了安装空间，从而必须提供较大的真空腔。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种紧凑的设备，所述设置在大量装载材料时仍然无干扰地工作。

因此为了实现上述目的，本发明提出：每个坩埚均配备有一被布置在支架上的提升装置，并且所述支架能线性地在坩埚位移的方向上移位。

根据本发明的设备具有下述优点：在相同精确度的情况下，线性引导装置比转动机构需要更少的安装空间，从而也能够将提升装置布置在支架上。因此，所述提升装置与旋转装置(Karussell)处于固定空间关系，从而确保了提升装置与分别配备的旋转装置准确地共同作用。

所述旋转装置现在能够被填充用于各种基底涂层的不同材料。通过支架线性地移位，连续地施加各个层，从而含有当前要蒸发的材料的坩埚分别位于工作位置中，其中电子束可到达该坩埚。工作位置的地点被限定，因为具有坩埚的支架的上侧的大部分位于基底和其支座(Halter)的阴影中。

因为电子枪仅能被布置涂层区之上，该涂层区位于坩埚之上且其中设置有待涂层的基底，因而会出现遮蔽问题。因为基底及其支座在很大程度上填满了所述涂层区，因此仅保留了一被限定的空间用于引导电子束到达坩埚。基底接纳部例如由两个长形的且水平延伸的支座构成，在其上并排布置多个基底。因此，电子束仅能在一位于所述两个支座之间的垂直面内移动。在该平面侧向的区域被所述基底接纳部遮蔽。由于上述原因，为了进入其工作位置，各个坩埚必须被推入所述垂直面内，以便使电子束能够达到坩埚。

如果所述支架从一个终端位置到另一个终端位置线性地运行了一段与坩埚装置的坩埚的位移量(Versatz)相应的距离，则其中一个坩埚就占据另一个坩埚的工作位置，使得电子枪的射束现在能达到所述坩埚。

所述坩埚装置优选是两个坩埚装置其中的一个，其中，两个坩埚装置的坩埚具有相同的位移量，从而在工作位置中，能够蒸发每两个坩埚中的材料。

为了能够提供足够的材料，而无需打开真空腔，每个坩埚配备有一包括多个管道的旋转装置，其中每个旋转装置可围绕垂直轴旋转地支承在支架中。

如果所述设备被布置在真空腔中，其中用于提升装置的传动轴真空密封地被引导穿过真空腔的壁，从而用于驱动各个提升装置的马达位于真空腔外部，则实现了一种简单且紧凑的结构。

所述马达位置固定地安装在所述真空腔上。为了在支架的每个位置中均可将旋矩传递给提升装置，在马达与所属的提升装置之间传递旋矩的每个连接部具有能伸缩状拉出的区段。

在最简单的情况下，管道由布置成圆的保持杆构成，所述保持杆在上转盘和下转盘之间延伸。

被设计为主轴驱动装置的提升装置分别具有侧向突出的托架或者说悬臂架(Ausleger)，所述托架插入到所属的由保持杆构成的管道中。

为了能够在支架的管道之间转换，在支架的上侧上为每个坩埚设置引导管套，材料条可穿过所述引导管套通过坩埚底部被引导到坩埚中。每个引导管套均配设有用于将材料条保持在引导管套中的夹紧装置。

附图说明