[发明专利]包括校准系统的图案生成器

说明书

相关申请

本PCT专利申请要求2010年3月3日提交的临时美国专利申请no.61/282,584的优先权。

背景技术

在工件上形成图案时，图案匹配在进行快速实时对准中是有用的。然而，在至少一些情况下，执行足够精确的图案匹配和/或以足够的精度确定工件上待生成图案中像素的位置是有些困难的。

发明内容

示例性实施例描述了一种包括校准系统的图案生成器，该校准系统构造成至少部分地基于从校准板反射的光束来确定写入工具的坐标系与校准板的坐标系之间的相关性。

根据至少一些示例性实施例，校准系统构造成至少部分地基于至少一个光学相关性信号或图案来确定写入工具的坐标系与工件或台架上的校准板(例如，附接至载运台的参考板)的坐标系之间的相关性，所述信号或图案为从校准板表面上的至少一幅反射图案反射的至少一条光束的形式。

根据至少一些其它的示例性实施例，写入工具的坐标系与校准板的坐标系之间的相关性至少部分地在工件上生成图案之前得以确定。

根据至少一些示例性实施例，校准系统构造成用以当写入工具在工件上生成图案时确定相关性，并且图案生成器构造成用以至少部分地基于从校准板反射的光束(例如，光学相关性信号或图案)进行图案的实时对准，该信号或图案为从校准板表面上的至少一幅反射图案反射的至少一条光束的形式。

附图说明

将参照附图描述示例性实施例，其中：

图1示出了测量装置或工具的简化的示例性实施例，其中激光束沿旋转器的臂反射；

图2示出了根据示例性实施例的包括旋转器的测量装置；

图3示出了根据另一个示例性实施例的测量装置；

图4示出了根据示例性实施例的刻度尺的布置；

图5示出了根据另一个示例性实施例的刻度尺的布置；

图6示出了根据示例性实施例的包括高架刻度尺的测量装置的一部分；

图7示出了根据另一个示例性实施例的测量装置的一部分；

图8示出了根据又一个示例性实施例的测量装置的一部分；以及

图9示出了其中使用了从刻度尺底表面的反射的示例性实施例。

图10示出了根据示例性实施例的示例性激光直接成像(LDI)写入器和测量系统的光程。

图11示出了根据示例性实施例的测量系统的校准板的布局。

图12A示意性地示出了作为旋转器角a的函数的、分别沿笛卡尔方向x和y的校正(或偏差)函数f_x(a)和f_y(a)的求解(extraction)，以补偿将空间光调制器(SLM)图像光学投射到将通过LDI写入器曝光的基底上的过程中产生的误差和缺陷。

图12B示出了示例性整体坐标系，其示出了误差或缺陷与SLM上的像素的实际位置y₀之间的示例性依从关系。

图13示出了一个示例性实施例，其中校准板安装在台架上，并且通过台架的中间平移来扫描扇形区域的特征线，以便确定校准板的角向。

图14A示出了一个实例，其中SLM行式映像中的均匀照亮和点亮的像素块横穿过垂直反射条上的路径，该反射条在沿SLM行式映像的主轴线定向。

图14B是示出了图14A中所穿过的路径产生的示例性相关性信号的曲线图，该信号在低反射率和高反射率之间具有急剧的过渡。

图15A示出了一个实例，其中SLM行式映像中的均匀照亮的像素块横穿过水平反射条上的路径，该水平条正交于SLM的行式映像定向。

图15B是示出了图15A中所穿过的路径产生的示例性相关性信号的曲线图，与图14B中的信号相比，该信号在低反射率和高反射率之间具有比较平缓的过渡。

图16A示出了其它具有较低反射率的基底上的倾斜反射条形码图案的详细视图。

图16B是示出了示例性光学相关性信号的曲线图，该信号表示作为旋转器臂的角位置的函数的SLM行式映像与反射图案之间的相关性。

图17是图11中所示的轨道的示例性实施例的一部分的更详细的视图。

图18A和图18B示出了根据示例性实施例的用于阐释y刻度校准的示例性曲线图。

图19是用于示出如何在校准板上反复使用轨迹的单次扫描测量结果的曲线图，该校准板如上文参照图11和图17所述构造成用以提供较大区域上的有关变形和偏差的信息。

图20A和图20B示出了具有圆柱台架的常规处理系统。

图21示出了具有圆柱台架的图案生成器的一部分。