[发明专利]光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置

权利要求书

1.一种光掩模，

使光选择性地照射到在一定方向上搬运的基板上的多个位置，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述光掩模的特征在于设置有：

多个掩模图案，其在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及

多个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成。

2.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

在上述多个对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于上述基板的基准位置已对位的状态下，上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于上述基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置。

3.根据权利要求1所述的光掩模，其特征在于，

与上述各掩模图案对应地在上述基板侧形成有多个微透镜。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的光掩模，其特征在于，

上述多个掩模图案在基板搬运方向及其交叉方向上以一定的排列间距形成为矩阵状。

5.一种激光退火装置，

进行在一定方向上搬运的基板和与该基板相对配置的光掩模的对位来对上述基板上的多个位置选择性地照射激光，对形成于上述基板的薄膜进行退火处理，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述激光退火装置的特征在于具备：

掩模载置台，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬运方向上移动来从多个对准标记中选择一个对准标记，上述光掩模设置有多个掩模图案和上述多个对准标记，上述多个掩模图案在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使激光通过，上述多个对准标记形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成；

线阵相机，其使细线状的受光部的长边方向中心轴与从上述光掩模的多个对准标记中选择的对准标记的在与上述基板搬运方向交叉的方向上的中心线一致而配置；以及

对准单元，其以上述被选择的对准标记的基准位置与预先设定于上述基板的基准位置的位置关系成为预先决定的关系的方式，将上述基板与上述光掩模在与上述基板搬运方向交叉的方向上相对地移动。

6.根据权利要求5所述的激光退火装置，其特征在于，

在设置于上述光掩模的上述多个对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于上述基板的基准位置已对位的状态下，上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于上述基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置。

7.根据权利要求5或6所述的激光退火装置，其特征在于，

上述光掩模，与上述各掩模图案对应地在上述基板侧形成有多个微透镜。