[发明专利]光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及跟随在一定方向上搬运的基板而使光选择性地照射到基板上的多个位置的光掩模，详细地说，涉及在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好的光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置。

背景技术

现有的这种光掩模具备：多个掩模图案，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及一个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，形成在相对于多个掩模图案在与基板搬运方向相反的方向上分开一定距离的位置，上述一对细线具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2008-216593号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在这样的现有的光掩模中，对准标记的平行于基板搬运方向的一对细线的间隔与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍的大小相等，因此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，有时对准标记的上述一对细线与基板上的图案的平行于基板搬运方向的缘部干扰而难以检测，不能够准确地检测出对准标记的基准位置。因此，有如下可能：对光掩模的基板的跟随性能下降，不能够使光精度良好地照射到基板上的目标位置。

因此，本发明的目的在于，针对这样的问题，提供在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好的光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，根据第1发明的光掩模使光选择性地照射到在一定方向上搬运的基板上的多个位置，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述光掩模具备：多个掩模图案，其在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成。

根据这样的构成，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，从在基板搬运方向上相互分开一定距离而配置的多个对准标记中选择适当的一个对准标记，减小对准标记的平行于基板搬运方向的一对细线与设置于基板的图案的平行于基板搬运方向的两个缘部的干扰。

另外，在上述多个对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于上述基板的基准位置已对位的状态下，上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于上述基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置。由此，在各对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于基板的基准位置已对位的状态下，将上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置，进一步减小该一对细线与设置于基板的图案的平行于基板搬运方向的两个缘部的干扰。

而且，与上述各掩模图案对应地在上述基板侧形成有多个微透镜。由此，由与各掩模图案对应地在基板侧形成的多个微透镜将光聚敛到基板上。

并且，上述多个掩模图案在基板搬运方向及其交叉方向上以一定的排列间距形成为矩阵状。由此，穿过在基板搬运方向及其交叉方向上以一定的排列间距形成为矩阵状的多个掩模图案而将光照射到基板上的多个位置。