[发明专利]蒸镀方法、蒸镀装置以及有机EL显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于在基板上形成规定图案的覆膜的蒸镀方法和蒸镀装置。此外，本发明涉及具备利用蒸镀形成的发光层的有机EL(ElectroLuminescence：电致发光)显示装置。 

背景技术

近年来，在各种各样的商品和领域中利用平板显示器，要求平板显示器的更加大型化、高画质化和低耗电化。 

在这样的状况下，具备利用有机材料的电场发光(ElectroLuminescence)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为全固体型的、能够以低电压驱动、高速响应性、自发光性能等方面优异的平板显示器被高度关注。 

例如，在有源矩阵方式的有机EL显示装置，在设置有TFT(薄膜晶体管)的基板上设置有薄膜状的有机EL元件。在有机EL元件中，在一对电极之间叠层有包括发光层的有机EL层。一对电极中的一个电极与TFT连接。而且，通过向一对电极间施加电压而使发光层发光来进行图像显示。 

在全彩色的有机EL显示装置，一般在基板上作为子像素排列形成有具备红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的各色的发光层的有机EL元件。通过使用TFT，有选择地使这些有机EL元件以所期望的亮度发光来进行彩色图像显示。 

为了制造有机EL显示装置，需要以规定的图案按每有机EL元件形成由发出各种颜色的光的有机发光材料构成的发光层。 

作为以规定图案形成发光层的方法，已知例如真空蒸镀法、喷墨法、激光转印法。例如在低分子型有机EL显示装置(OLED)，大多使用真空蒸镀法。 

在真空蒸镀法中，使用形成有规定图案的开口的掩模(也称为荫 罩)。使贴紧固定有掩模的基板的被蒸镀面与蒸镀源相对。然后，使来自蒸镀源的蒸镀颗粒(成膜材料)通过掩模的开口蒸镀至被蒸镀面，由此形成规定图案的薄膜。蒸镀按发光层的颜色进行(将此称为“分涂蒸镀”)。 

例如在专利文献1、2，记载有使掩模相对于基板依次移动地进行各色的发光层的分涂蒸镀的方法。在这样的方法中，使用与基板同等大小的掩模，在蒸镀时，掩模以覆盖基板的被蒸镀面的方式被固定。 

现有技术文献 

专利文献 

专利文献1：日本特开平8-227276号公报 

专利文献2：日本特开2000-188179号公报 

专利文献3：日本特开2004-169066号公报 

专利文献4：日本特开2004-103269号公报 

发明内容

发明所要解决的问题 

在这样的现有的分涂蒸镀法中，如果基板变大，则相应地掩模也需要大型化。但是，当增大掩模时，因掩模的自重弯曲以及延伸，容易在基板与掩模之间产生间隙。而且，该间隙的大小因基板的被蒸镀面的位置而不同。因此，难以进行高精度的图案化，产生蒸镀位置的偏离、混色，而难以实现高精细化。 

此外，当增大掩模时，掩模和保持该掩膜的框架等变得巨大，其重量也增加，因此处理变得困难，存在妨碍生产性和安全性的问题。此外，蒸镀装置和附设于该蒸镀装置的装置也同样变得巨大、复杂，因此，装置设计变得困难，设置成本也变得昂贵。 

因此，利用现有的分涂蒸镀法难以应对大型基板，例如对于超过60英寸那样的大型基板，无法实现能够以量产级别进行分涂蒸镀的方法。 

另一方面，期望在蒸镀法中抑制由于蒸镀材料从所形成的覆膜的端缘突出而形成的端缘的模糊。此外，期望覆膜的厚度均匀。 

在有机EL显示装置，如果在由于分涂蒸镀而形成的发光层的端缘 产生模糊，则蒸镀材料附着在相邻的不同颜色的发光层而产生混色。为了不产生混色，需要使像素的开口宽度变窄，或者使像素间距变大而使非发光区域变大。但是，如果使像素的开口宽度变窄则亮度下降。如果为了达到所需的亮度而使电流密度变高，则有机EL元件寿命变短、变得容易发生损伤，可靠性下降。另一方面，如果使像素间距变大，则不能实现高精细的显示，显示品质下降。 

此外，在有机EL显示装置中，如果通过分涂蒸镀形成的发光层的厚度不均，则产生发光不均，显示品质下降。 

本发明的目的在于，提供能够形成抑制了端缘的模糊和厚度不均的覆膜的、也能够适用于大型的基板的蒸镀方法和蒸镀装置。 

此外，本发明的目的在于提供可靠性和显示品质优异的有机EL显示装置。 

解决问题的方案