[发明专利]压印用复制模的制造方法

权利要求书

1.一种复制模的制造方法，其特征在于，具有以下工序：

（A）在基材上涂布有机无机复合材料的工序，

（B）通过热和/或电磁波使涂布面半固化，制成微细凹凸图案形成用基材的工序，

（C）利用压印法将形成有规定的微细凹凸图案的母模挤压在该微细凹凸图案形成用基材上来转印微细凹凸图案的工序，

（D）对转印的该微细凹凸图案形成用基材照射电磁波从而使其固化的工序。

2.根据权利要求1所述的复制模的制造方法，其特征在于，还具有（E）对所述（D）工序中得到的微细凹凸图案面赋予脱模层的工序。

3.根据权利要求1所述的复制模的制造方法，其特征在于，有机无机复合材料含有脱模层用材料。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的复制模的制造方法，其特征在于，有机无机复合材料包含：

a）有机硅化合物，由式（I）表示的化合物、式（II）表示的化合物、以及如果存在的话它们的水解缩合物构成，

R¹_nSiX_4-n…（I）

式（I）中，n表示1或2，n为2时，R¹可以彼此相同也可以不同，R¹为有机基团，R¹中1个以上表示含乙烯基烃基，X表示羟基或者水解性基团，可以彼此相同也可以不同，

R²_nSiX_4-n…（II）

式（II）中，n表示1或2，n为2时，R²可以相同也可以不同，R²表示碳原子直接键合在式中的Si上的除含乙烯基烃基以外的有机基团，X表示羟基或者水解性基团，可以彼此相同也可以不同，

｛〔式（I）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（I）化合物的单元〕｝/｛〔式（I）化合物〕＋〔式（II）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（I）化合物的单元〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（II）化合物的单元〕｝×100＝30～100摩尔%，并且｛〔式（II）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（II）化合物的单元〕｝/｛〔式（I）化合物〕＋〔式（II）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（I）化合物的单元〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（II）化合物的单元〕｝×100＝0～70摩尔%，

b）电磁波固化性化合物，以及

c）硅烷醇缩合催化剂。

5.根据权利要求4所述的复制模的制造方法，其特征在于，

｛〔式（I）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（I）化合物的单元〕｝/｛〔式（I）化合物〕＋〔式（II）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（I）化合物的单元〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（II）化合物的单元〕｝×100＝30～95摩尔%，并且｛〔式（II）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（II）化合物的单元〕｝/｛〔式（I）化合物〕＋〔式（II）化合物〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（I）化合物的单元〕＋〔如果存在的话水解缩合物中的来自式（II）化合物的单元〕｝×100＝5～70摩尔%。

6.根据权利要求4或5所述的复制模的制造方法，其特征在于，电磁波固化性化合物相对于组合物的固体成分的总质量为80质量%以下。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的复制模的制造方法，其特征在于，硅烷醇缩合催化剂为感光性化合物。

8.一种复制模，是通过权利要求1～7中任一项所述的方法而得到的。