[发明专利]损耗剖面分析有效

专利信息
申请号: 201180030216.7 申请日: 2011-05-03
公开(公告)号: CN103004287A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 平夏斯·艾恩齐格;艾兰·本-什穆尔;亚历山大·比尔钦斯基;阿米特·拉贝尔 申请(专利权)人: 高知有限公司
主分类号: H05B6/64 分类号: H05B6/64
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 苗源;王漪
地址: 百慕大*** 国省代码: 百慕大群岛;BM
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摘要:
搜索关键词: 损耗 剖面 分析
【权利要求书】:

1.一种用于经由至少一个辐射元件将电磁能施加到能量施加带中的物体上的设备,该设备包括:

至少一个处理器,该处理器被配置为:

使得将电磁能以多个电磁场场图施加给该能量施加带中的该物体;

对于该多个场图中的每一者,确定在该能量施加带中耗散的功率量值;以及

基于当该多个场图施加到该能量施加带时耗散的功率量值而确定该能量施加带的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。

2.根据权利要求1所述的设备,其中该处理器进一步被配置为确定该物体的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的设备,其中该电磁能是在射频(RF)范围内。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器被配置为基于与该多个场图中的每一者关联的电磁场强和在该多个场图中的每一者下该能量施加带中耗散的功率来计算能量吸收特性的该空间分布。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器被配置为基于能量吸收特性的该空间分布来确定该物体的位置。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器被配置为基于由激发该多个场图中的每一者而产生的高场强区域的已知位置来确定该物体的位置。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器被配置为反复确定能量吸收特性的该空间分布。

8.根据权利要求7所述的设备,其中能量吸收特性的空间分布的两次确定之间的时延为能量吸收特性的空间分布的其他两次确定之间的差值大小的函数。

9.根据权利要求8所述的设备,其中能量吸收特性的空间分布的两次确定之间的时延为该物体的特性的函数。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中对于该多个场图中的每一者,该处理器被配置为区分该物体中耗散的功率与其他地方耗散的功率。

11.根据权利要求10所述的设备,其中该处理器被配置为使用与一个能量施加带结构相关联的损耗值来进行区分。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使得基于能量吸收特性的该空间分布而将不同的能量量值施加到该能量施加带的不同部分。

13.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使得将不同的能量量值施加到该能量施加带的不同部分,以使类似的能量量值被施加到具有类似能量吸收特性的区,而不同的能量量值被施加到具有不同能量吸收特性的区。

14.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使得将不同的能量量值施加到该能量施加带的不同部分,以使类似的能量量值被具有不同能量吸收特性的区吸收。

15.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使得将不同的能量量值施加到该能量施加带的不同部分,以使在该能量施加带中获得能量吸收的预定空间分布。

16.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使受控的能量量值在该物体中的不同区处被吸收。

17.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该处理器被配置为确定只在该能量施加带的一个预定部分中耗散的功率量值。

18.根据权利要求17所述的设备,其中该预定部分包括该能量施加带中的该物体的一个或多个部分。

19.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使得将能量吸收特性的该空间分布存储为一个查找表。

20.根据权利要求19所述的设备,其中该查找表表示该能量施加带的各区与它们对应的吸收率系数之间的关系。

21.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中该至少一个处理器进一步被配置为使得将该能量施加带的至少一部分中的能量吸收特性的该空间分布显示为一个图像。

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