[发明专利]损耗剖面分析

说明书

本申请要求以下各案的权益：于2010年5月3日提交的第61/282,980号美国临时专利申请；于2010年5月3日提交的第61/282,981号美国临时专利申请；于2010年5月3日提交的第61/282,983号美国临时专利申请；于2010年5月3日提交的第61/282,984号美国临时专利申请；于2010年5月3日提交的第61/282,985号美国临时专利申请；以及于2010年5月3日提交的第61/282,986号美国临时专利申请。这些申请中的每一者都以全文完全结合在此。

技术领域

本申请涉及用于施加电磁能给物体的设备和方法。

背景技术

电磁波一般用于施加能量给物体。典型地，这样的物体位于被配置为接收电磁能的腔体中。然而，由于电磁场分布可能取决于物体的性质（例如，物体的大小）、位置和定向以及施加能量的源的特性，所以通常难以用可控的方式施加电磁能。电磁能施加装置的一个实例是微波炉。在微波炉中，使用微波通过空气将来自能量源的电磁能施加给物体。随后，电磁能被物体吸收并且转化为热能，从而使物体的温度升高。微波炉不能区分加热空间中的一个区与另一个区，而将受控的能量量值递送到这些区。也就是说，对于正被加热的物体，典型的微波炉是“盲的”，并且既不能分辨物体的位置又不能分辨其能量吸收特性。

发明内容

本披露的一些示例性方面可针对一种用于将电磁能施加给能量施加带中的物体的设备和方法。该设备可包括至少一个处理器，该处理器被配置为使得将电磁能以多个电磁场场图施加给能量施加带中的物体。该处理器可进一步被配置为针对该多个场图中的每一者而确定在能量施加带耗散的功率量值。处理器也可被配置为基于当该多个场图施加到能量施加带时耗散的功率量值，而确定能量施加带的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。

处理器可进一步被配置为基于与多个场图中的每一者关联的电磁场强以及在多个场图中的每一者下能量施加带中耗散的功率中的至少一者，来计算能量吸收特性的分布。

在此所使用的物体（例如，处理器）被描述为被配置为执行某个任务（例如，计算分布），前提是（至少在一些实施方案中）该物体在操作中确实执行此任务。类似地，当某个任务（例如，控制电磁能的分布）被描述为用来实现某个目标结果（例如，为了将多个电磁场场图施加给物体）时，这意味着（至少在一些实施方案中）执行该任务可实现该目标结果。

在一些实施方案中，处理器可被配置为反复确定能量吸收特性的分布。能量吸收特性分布的两次确定之间的时延，例如，两次连续的确定之间的时延，可为先前两次确定中所测量的分布之间的差的幅度的函数。例如，第二次与第三次确定之间的时延可为第一次与第二次确定中所测量的分布之间的差的幅度的函数。在一些实施方案中，两个分布之间的差的幅度可被确定为这两个分布的函数。这样的函数的实例可包括这两个分布中施加到给定位置的能量的量之间的差，以及在某区上的多次分布之间的能量差的平均值。可替代地或额外地，能量吸收特性分布的两次连续确定之间的时延可为物体的特性的函数。

此外，处理器可被配置为基于能量吸收特性的分布使得将不同的能量量值施加到能量施加带的不同部分。处理器也可被配置为使受控的能量量值在物体中的不同位置处被吸收。

本披露的一些示例性方面可针对一种用于将电磁能施加给物体的设备和方法。该设备可包括一个电磁能来源。此外，该设备可包括能量施加带。此外，该设备可包括至少一个处理器。该处理器可被配置为使电磁能以多个电磁场场图被施加给能量施加带中的物体。该处理器也可被配置为针对该多个场图中的每一者而确定在能量施加带中耗散的功率量值。此外，该处理器可被配置为基于当该多个场图施加到能量施加带时耗散的功率量值而确定物体的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。

本披露的一些示例性方面可针对一种用于经由至少一个辐射元件将射频范围中的电磁能（RF能量）施加到能量施加带的设备和方法。该设备可包括至少一个处理器。该处理器可被配置为控制RF能量的分布，以使至少两个互不相同的电磁场场图被施加到能量施加带。此外，该处理器可被配置为针对电磁场场图中的每一者而确定在能量施加带中耗散的功率量值。此外，该处理器可被配置为基于针对每个场图所确定的功率量值，而确定能量施加带的至少一部分上的能量吸收特性的空间分布。